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ALD로 저온 증착 된 ZrO2박막의 특성에 대한 연구

The Properties of ZrO2 Film Deposition by ALD at Low Temperature
한국정밀공학회지 Vol.34 No.10, 2017.10, 735-738 (4 pages)
DOI :10.7736/KSPE.2017.34.10.735
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초록
ZrO2 film is widely used for high-k applications and also has good mechanical properties. This paper covers the study of the properties of ZrO2 film deposited by atomic layer deposition (ALD) using TEMA Zr and water in the temperature range of 110 to 250oC for potential application in flexible-device fabrication. At a low deposition temperature, ALD ZrO2 films showed a uniform growth rate of ~1 Å per cycle, good uniformity, partial crystallinity, and smooth surface. ZrO2 can also be deposited on the trench structure with a high aspect ratio (~1:50), but conformality needs to be improved for practical applications.

목차
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 고찰
REFERENCES
4. 결론
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