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최수한 (Soo Han Choi)

소속기관
대한전자공학회
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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  • 논문수16
  • 발행기간1987 ~ 1995
  • 이용수142
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
Sub-Half Micron Contact 식각에서 Post Etch Treatment 연구 대한전자공학회 학술대회 1995 11 0
차세대 반도체 소자분리 기술 대한전자공학회 학술대회 1995 7 0
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 대한전자공학회 학술대회 1994 19 0
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching ) 대한전자공학회 학술대회 1994 15 0
NF3 / O2 플라즈마를 이용한 Silylated Resist의 2-Step Etch 연구 대한전자공학회 학술대회 1994 16 0
TiSi2의 열적 불안전성에 대한 이론적 고찰 및 개선 방안 ( The theoretical study and improvement on agglomeration of TiSi2 ) 대한전자공학회 학술대회 1994 15 0
Al 증착방법에 따른 미세 구조 변화가 Electromigration에 미치는 영향 대한전자공학회 학술대회 1994 5 0
New breakdown mechanism of ultrathin gate oxides under ballistic transport 대한전자공학회 학술대회 1994 2 0
고온 공정에서 Ta2O5 절연막의 TiN의 반응성 조사 대한전자공학회 학술대회 1994 1 0
열처리 조건이 PECVD방식으로 증착된 Ta2O5 박막 특성에 미치는 영향 ( Effect of Annealing Conditions on Ta2O5 Thin Films Deposited By PECVD System ) 전자공학회논문지-A 1993 23 0
WAFER와 전극 사이의 GAP이 식각 특성에 미치는 영향 ( Effects of a Gap Between a Wafer and an Electrode on Etch Characteristics ) 대한전자공학회 학술대회 1992 1 0
OSELO구조의 제작 방법과 소자분리 특성 ( Fabrication and Characteristics of OSELO Isolation ) 대한전자공학회 학술대회 1990 0 0
SILO 구조의 제작 방법과 소자 분리 특성 ( Fabrication and Characterization of SILO isolation Structure ) 대한전자공학회 학술대회 1988 17 0
Trench Capacitor 에서 삼층막유전체의 특성 ( Characteristics of triple-layered capacitor dielectrics in Trench ) 대한전자공학회 학술대회 1987 4 0
다층 배선 구조에서 Etchback 방식에 의한 층간 절연막의 평탄화 ( The Planarization of Interdielectric Film by Etchback Process in Multilevel Metallization ) 대한전자공학회 학술대회 1987 6 0
폴리 실리콘을 첨가하여 LOCOS 구조를 개량한 경우 소자분리 특성에 관한 연구 ( A Study on the Bird's Beak-reduced LOCOS Isolation by Adding Polysilicon ) 대한전자공학회 학술대회 1987 0 0