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김정규 (J. K. Kim)

소속기관
전주공업대학
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연구경력
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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저자의 논문 현황

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  • 논문수14
  • 발행기간1985 ~ 2003
  • 이용수129
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
고온에서 PD-SOI PMOSFET의 소자열화 대한전자공학회 학술대회 2003 24 0
저전력 다기능 센서시스템 A/D Converter 대한전자공학회 학술대회 2003 9 0
Schottky 접촉을 이용한 Pt/AIGaN 자외선 수광소자의 설계 및 특성 대한전자공학회 학술대회 2002 10 0
Rail-to-Rail CMOS 증폭회로의 옵셋 보상 방법 ( An Offset Compensation Scheme for Rail-to-Rail CMOS Op-amps ) 대한전자공학회 학술대회 1998 10 0
ZnO : Al , In 박막의 구조적 및 전기적 특성 ( Structural and Electrical Properties of ZnO : Al , In Thin Film ) 대한전자공학회 학술대회 1998 9 0
ZnO : Al 투명도전막의 열처리특성에 대한 연구 ( A Study on the Heat Treatment Effects of ZnO : Al Transparent Conductive Thin Films ) 대한전자공학회 학술대회 1998 1 0
ZnO:AI 투명도전막의 열처리특성에 대한 연구 대한전자공학회 학술대회 1998 5 0
Rail-to-Rail CMOS 증폭회로의 옵셋 보상 방법 대한전자공학회 학술대회 1998 2 0
ZnO:AI,In박막의 구조적 및 전기적 특성 대한전자공학회 학술대회 1998 1 0
Electrical and Optical Properties of CbS Thin Films Prepared by CSVT Deposition Method 대한전자공학회 학술대회 1997 2 0
고속열확산 공정에 의해 형성된 Phosphorus Source/Drain을 갖는 NMOS 트랜지스터의 특성 ( Characteristics of NMOS Transistors with Phosphorus Source/Drain Formed by Rapid Thermal Diffusion ) 전자공학회논문지 1990 25 0
고체 확산 소오스를 사용한 인과 붕소의 실리콘으로의 2단계 고속 열 확산 ( Two-Step Rapid Thermal Diffusion of Phosphorus and Boron into Silicon from Solid Diffusion Sources ) 특정연구 결과 발표회 논문집 1989 15 0
액정을 이용한 32X32 평판표시기의 제작 ( Fabrication of 32X32 Flat Panel Display Using Liquid Crystal ) 전자공학회지 1986 12 0
액정을 이용한 32 × 32 평판 표시기의 제작 ( Fabrication of 32 × 32 Flat Panel Display Using Liquid Crystal ) 대한전자공학회 학술대회 1985 4 0