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염근영

소속기관
성균관대학교
소속부서
SKKU Advanced Institute of Nano technology
직급
교수
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 자연과학 > 물리학 TOP 5%
  • 공학 > 기계공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
#고주파
#광전류
#리모트 플라즈마
#분할전극
#전이금속 디칼코게나이드
#amorphous carbon
#Aspect ratio dependent etch(ARDE)
#Atmospheric pressure plasma
#Atomic layer deposition (ALD)
#Atomic Layer Etching (ALE)
#block co-polymer
#C₃F<SUB>6</SUB>O Plasma
#C3F6O Plasma
#C6F12O Plasma
#charging effect
#chlorine doping
#Cobalt
#Cyclic process
#Diisoprophylamino Silane (DIPAS)
#Dopamine
#Dry cleaning
#Etch Profile
#Field effect transistor
#Global Warming Potential (GWP)
#global warming potential(GWP)
#Inductively coupled plasma
#Inductively coupled plasma magnetron sputter
#ion beam
#Ionization
#L-FC
#liquid precursors
#MoS₂
#multi-tile electrode plasma source
#NF3 (nitrogen trifluoride)
#NH₃
#O2 (oxygen)
#OF₂
#Optical Emission Spectroscopy (OES)
#Ovonic Threshold Switching (OTS)
#Perfuluorocaron (PFC) gases
#Phase-change Random Access Memory (PRAM)
#plasma
#Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
#Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PEALD)
#Plasma enhanced atomic layer deposition(PEALD)
#Plasma etch
#Process temperature
#PS-b-PDMS
#Pulsed plasma etching
#Reactive Ion Etching (RIE)
#Remote plasma
#Si nanosturcture
#Silicon nitride
#Silicon nitride (SiNx)
#Silicon nitride(Si₃N₄)
#SiO2
#Sputter
#Step coverage
#Stille polymerization mechanism
#Very high frequency (VHF)
#W (tungsten)
#Wet etch rate
#X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)

저자의 논문 현황

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  • 논문수320
  • 발행기간1994 ~ 2019
  • 이용수5,636
  • 피인용수0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
필터 기능 목적의 대기압 플라즈마 코팅 모듈을 이용한 글루코스 코팅 연구 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2019 0 0
Ultra-thin invisible Ag nano-mesh electrode 제조에 대한 연구 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2019 0 0
A Brief Review of Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Si₃N₄ Applied Science and Convergence Technology 2019 1 0
A Review of Inductively Coupled Plasma-Assisted Magnetron Sputter System Applied Science and Convergence Technology 2019 0 0
CBr₂F₂ 플라즈마를 이용한 반도체 물질의 식각 특성 분석 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 15 0
고주파 (162 MHz) 분할전극 플라즈마 소스를 이용한 저수소 함량의 Silicon nitride (SiNx) 박막증착 및 PEALD 공정에 관한 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 3 0
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 2 0
Pulsed Inductively Coupled Plasma를 이용한 Si nanostructure 식각 특성 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 2 0
Development of Low Damage Dry Etch to Pattern Sub-10 nm with ACL and High-χ BCP mask 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 1 0
Study on Reactive Ion Etching of PRAM material using Hydrogen based Gases 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 1 0
리모트 타입의 ICP를 이용한 MoS₂의 chlorine doping 및 전기적 특성변화에 대한 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
초고주파 (162 MHz) 다중 분할 전극 플라즈마 소스를 이용한 silicon nitride PEALD 공정연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
Atomic Layer Etching of Tungsten using NF₃/O₂ plasma 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
Properties of cobalt thin films deposited by PEALD using very high frequency (60 and 100 MHz) 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
Selectively Dry Cleaning of Silicon Oxide using Cyclic Process 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
Synthesis method of polydopamine-like film with Atmospheric pressure plasma coating module 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
반도체 디스플레이 제조기술: 진공에서 비진공, 다시 진공으로, 기술의 순환 진공이야기 2019 18 0
EUVL 펠리클 제작을 위한 다층 그래핀 성장 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 49 0
이온빔을 이용한 Cr 원자층 식각 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 10 0
ICP를 이용한 c-C5F8 식각 공정에서의 플라즈마 진단 및 표면 분석 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 8 0
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