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홍상진 (Sang Jeen HONG)

소속기관
Myongji University
소속부서
Department of Electronic Engineering
직급
-
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 자연과학 > 물리학
  • 공학 > 기계공학
  • 공학 > 전자/정보통신공학
  • 공학 > 토목/환경공학
  • 공학 > 컴퓨터학

저자의 논문 현황

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  • 논문수34
  • 발행기간2006 ~ 2019
  • 이용수1,435
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
식각장비의 GDP 표면의 절연체 두께에 따른 영향성 해석 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
유연기판 균일 압력을 위한 곡면설계 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
Chamber 내부 Coating 물질별 내플라즈마 저항 특성연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
RF임피던스 정합장치 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 0 0
Characterization of PECVD SiN silicon photonics waveguide material for optical micro-ring resonator 한국진공학회 학술발표회초록집 2016 4 0
In-situ PEALD process monitoring using high-speed optical plasma monitoring system 한국진공학회 학술발표회초록집 2016 3 0
Process integration of Ion sensitive field effect transistor (ISFET) based pH sensor 한국진공학회 학술발표회초록집 2016 2 0
실시간 고속 플라즈마 아킹 검출에 대한 연구 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2015 20 0
광학센서를 이용한 실리콘 관통 전극 식각 공정에서 식각 종료점 검출 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2014 8 0
V-NAND Flash Memory 제조를 위한 PECVD 박막 두께 가상 계측 알고리즘 한국진공학회 학술발표회초록집 2014 84 0
Endpoint Detection in Semiconductor Etch Process Using OPM Sensor 한국진공학회 학술발표회초록집 2014 14 0
Use of In-Site Optical Emission Spectroscopy for Leak Fault Detection and Classification in Plasma Etching JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE 2013 54 0
In-Situ Dry-cleaning (ISD) Monitoring of Amorphous Carbon Layer (ACL) Coated Chamber 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 115 0
Process Optimization of PECVD SiO2 Thin Film Using SiH4/O2 Gas Mixture 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 87 0
Real-Time Spacer Etch-End Point Detection (SE-EPD) for Self-aligned Double Patterning (SADP) Process 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 42 0
Data Qualification of Optical Emission Spectroscopy Spectra in Resist/Nitride/Oxide Etch; Coupon vs. Whole Wafer Etching 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 21 0
Recurrent Neural Network Modeling of Etch Tool Data 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 16 0
Process Fault Probability Generation via ARIMA Time Series Modeling of Etch Tool Data 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 9 0
Copper Interconnection and Flip Chip Packaging Laboratory Activity for Microelectronics Manufacturing Engineers 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 7 0
A Preliminary Research on Optical In-Situ Monitoring of RF Plasma Induced Ion Current Using Optical Plasma Monitoring System (OPMS) 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 4 0
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