본문 바로가기

장해규

소속기관
성균관대학교
소속부서
나노과학기술학과
직급
-
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 자연과학 > 물리학
  • 공학 > 기계공학

저자의 논문 현황

연도별 상세보기를 클릭하시면 연도별 이용수·피인용수 상세 현황을 확인하실 수 있습니다.
피인용수는 저자의 논문이 DBpia 내 인용된 횟수이며, 실제 인용된 횟수보다 적을 수 있습니다.
  • 논문수9
  • 발행기간2011 ~ 2015
  • 이용수159
  • 피인용수0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
RF Plasma Processes Monitoring for Fluorocarbon Polluted Plasma Chamber Cleaning by Optical Emission Spectroscopy and Multivariate Analysis 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2015 7 0
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique 한국진공학회 학술발표회초록집 2015 9 0
Chamber Monitoring with Residual Gas Analysis with Self-Plasma Optical Emission Spectroscopy 한국진공학회 학술발표회초록집 2014 33 0
Plasma Impedance Monitoring with Real-time Cluster Analysis for RF Plasma Etching Endpoint Detection of Dielectric Layers 한국진공학회 학술발표회초록집 2013 14 0
Low-Temperature Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Process for Growth of Graphene on Copper 한국진공학회 학술발표회초록집 2013 19 0
Real-Time Small Exposed Area SiO₂ Films Thickness Monitoring in Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring with Modified Principal Component Analysis 한국진공학회 학술발표회초록집 2013 10 0
In-situ Endpoint Detection for Dielectric Films Plasma Etching Using Plasma Impedance Monitoring and Self-plasma Optical Emission Spectroscopy with Modified Principal Component Analysis 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 25 0
Fault Detection with OES and Impedance at Capacitive Coupled Plasmas 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 23 0
Modified Principal Component Analysis for Real-Time Endpoint Detection of SiO2 Etching Using RF Plasma Impedance Monitoring 한국진공학회 학술발표회초록집 2011 19 0