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강봉구 (Bong Koo Kang)

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대한전자공학회
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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저자의 논문 현황

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  • 논문수19
  • 발행기간1987 ~ 2002
  • 이용수389
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
Hot carrier 스트레스에 의한 LDD n-MOSFET의 열화 특성 파악 및 새로운 Idlin 열화 모델 구현 대한전자공학회 학술대회 2002 27 0
시각 반응 모델에 의한 AC PDP의 Dynamic False Contour Noise 해석 대한전자공학회 학술대회 2000 8 0
후판제품창고 자동화 시스템의 연구개발 전자공학회지 1999 26 0
SiGe 에피막의 열 산화 ( Thermal Oxidation of SiGe ) 대한전자공학회 학술대회 1996 2 0
SiCe 에피막의 열 산화 대한전자공학회 학술대회 1996 1 0
RTCVD법에 의한 실리콘 성장 및 특성 ( Characteristics of Silicon Epitaxial Films Grown by RTCVD Method ) 대한전자공학회 학술대회 1995 2 0
RTCVD법에의한 실리콘 에피막의 성장 및 특성 대한전자공학회 학술대회 1995 0 0
반사형 InGaAs mqw seed 소자의 제작 및 특성 ( Fabrication and Characteristics of Reflection Type InGaAs MQW SEED ) 전자공학회논문지-A 1994 21 0
16x8 반사형 S-SEED 어레이 제작 및 특성 ( Fabrication and Characteristics of 16x8 Reflection Type Symmetric Self Electro-optic Effect Device Array ) 전자공학회논문지-A 1993 12 0
2단계 건식식각에 의한 GaAs Via-Hole 형성 공정 ( A Via-Hole Process for GaAs MMIC`s using Two-Step Dry Etching ) 전자공학회논문지-A 1993 16 0
16 x 8 반사형 S-SEED array 개발 ( Development of 16 x 8 Reflective S-SEED Array ) 대한전자공학회 학술대회 1992 0 0
Remote PECVD 산화막의 증착특성 및 박막 특성 연구 ( A Study of Deposition Properties and Characteristics of SiO2 film Grown by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition ) 전자공학회논문지-A 1992 114 0
투과형 Diode-Biased SEED 소자의 제작 및 특성 ( Fabrication and Characteristics of Transmission Type Diode-Biased Self Electro-optic Effect Device ) 전자공학회논문지-A 1992 20 0
Remote PECVD와 Direct PECVD에 의해 증착된 실리콘 산화막의 특성 평가 ( Evaluation of Silicon Oxide Films Deposited by Remote PECVD and Direct PECVD ) 대한전자공학회 학술대회 1991 21 0
HEMT 소자 제작을 위한 GaAs/AlGaAs층의 선택적 건식식각 ( Selective Dry Etching of GaAs/AlGaAs Layer for HEMT Device Fabrication ) 전자공학회논문지-A 1991 20 0
GaAs / AlGaAs MQW 투과형 광 변조기 제작에 관한 연구 ( A Study on GaAs / AlGaAs Transmission Type Optical Modulator Fabrication ) 대한전자공학회 학술대회 1991 3 0
평판형 반응성 이온 식각기의 설계변수 분석 ( Design Parameter Analysis for a Planar Type Reactive Ion Etcher ) 전자공학회논문지 1989 27 0
직접 광영기 Photo-CVD에 의한 이산화실리콘 박막의 증착특성 ( Photo-Induced Chemical Vapor Deposition of SiO2Thin Film by Direct Excitation Process ) 전자공학회논문지 1989 68 0
CVD 방법을 이용한 W 및 WSi2 증착장비 반응기 해석 ( Reactor Analysis for Chemical Vapor Deposition of W & WSi2 ) 대한전자공학회 학술대회 1987 1 0