본문 바로가기

정욱진 (W.J.Chung)

소속기관
한국진공학회
소속부서
-
직급
-
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 자연과학 > 물리학
  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
-

저자의 논문 현황

연도별 상세보기를 클릭하시면 연도별 이용수·피인용수 상세 현황을 확인하실 수 있습니다.
피인용수는 저자의 논문이 DBpia 내 인용된 횟수이며, 실제 인용된 횟수보다 적을 수 있습니다.
  • 논문수35
  • 발행기간1986 ~ 1996
  • 이용수293
  • 피인용수0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
SiGe 에피막의 열 산화 ( Thermal Oxidation of SiGe ) 대한전자공학회 학술대회 1996 2 0
SiCe 에피막의 열 산화 대한전자공학회 학술대회 1996 1 0
Si₁-xGex / Si 이종접합 에피막 구조에서의 misfit threading dislocation 특성 한국진공학회 학술발표회초록집 1996 29 0
기생저항 효과를 제거한 SOI 구조의 전기적 틍성분석 한국진공학회 학술발표회초록집 1996 28 0
산소 분위기 산화에서의 SiGe 에피막의 특성 한국진공학회 학술발표회초록집 1996 12 0
3단계 식각법을 이용한 SIMOX SOI의 결함분석 한국진공학회 학술발표회초록집 1996 2 0
급속열처리에 따른 Si 이온주입 유기결함의 회복 거동 ( Annealing Behaviors of Various Defects in Si during Rapid Thermal Annealing ) 대한전자공학회 워크샵 1996 20 0
SIMOX SOI를 이용한 압저항의 제조와 특성 대한전자공학회 학술대회 1995 1 0
SIMOX SOI를 이용한 압저항의 제조와 특성 ( Fabrication and Characterization of the Piezoresistors Using SIMOX SOI Wafer ) 대한전자공학회 학술대회 1995 0 0
열처리 공정 개선에 의한 SIMOX SOI의 품질 향상 ( Improvement of SIMOX SOI Quality by Annealing Process Development ) 대한전자공학회 학술대회 1995 5 0
RTCVD법에 의한 실리콘 성장 및 특성 ( Characteristics of Silicon Epitaxial Films Grown by RTCVD Method ) 대한전자공학회 학술대회 1995 2 0
열처리공정 개선에 의한 SIMOX SOI의 품질향상 대한전자공학회 학술대회 1995 1 0
RTCVD법에의한 실리콘 에피막의 성장 및 특성 대한전자공학회 학술대회 1995 0 0
Si+ 이온주입된 Si 기판의 결함형성 및 회복에 관한 연구 ( Characteristics of Si + - self implant Damage and Its Annealing Behavior ) 전자공학회논문지-A 1994 24 0
SOI 구조의 C - V 특성 분석 한국진공학회 학술발표회초록집 1994 15 0
Ar이 이온주입된 Si 기판의 결함회복 특성 Applied Science and Convergence Technology 1993 20 0
Si 이온주입결함이 B 의 channeling 및 확산에 미치는 영향 ( Effects of Si Ion Induced Defects on Channeling and Diffusion on B ) 대한전자공학회 학술대회 1993 3 0
Si 이온주입결함이 B의 channeling 및 확산에 미치는 영향 대한전자공학회 학술대회 1993 1 0
1 MeV argon 이온주입에의해 유기된 결함 및 회복기구의 XTEM 분석 ( XTEM Study of 1 MeV Ion Implantation Induced Defects in Si and Their Annealing Behavior ) 전자공학회논문지-A 1993 5 0
SIMOX SOI 제조시 산소이온 주입량의 감소가능성 ( The Possibility of Oxygen Dose Reduction in the SIMOX SOI Fabrication Process ) 대한전자공학회 학술대회 1993 2 0
더보기