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조현춘 (Hyun-Choon Cho)

소속기관
대한전자공학회
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직급
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연구경력
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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저자의 논문 현황

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  • 논문수20
  • 발행기간1985 ~ 1993
  • 이용수140
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
초고집적 회로용 PZT박막의 형성조건 - 스퍼터링법으로 Si , TiN/Ti/Si 기판위에 증착된 PZT 박막의 급속 열처리에 의한 결정화 및 특성 - ( Formation Conditions of PZT Thin Films for ULSI - A Study on the formation and characteristics of PZT thin films by rapid thermal annealing - ) 전자공학회논문지-A 1993 28 0
Pt / Ti / Si 기판위에 증착한 PLZT박막의 형성 및 그 특성 ( Formation and Characteristics of PLZT thin film deposited on Pt / Ti / Si substrate ) 대한전자공학회 학술대회 1993 3 0
Excess PbO Target을 사용하여 증착시킨 PZT 박막의 형성및 그 특성 ( Formation and characteristics of PZT thin film deposited by using excess PbO Target ) 대한전자공학회 학술대회 1993 2 0
Pt/Ti/Si 기판위에 증착한 PLZT박막의 형성 및 그 특성 대한전자공학회 학술대회 1993 2 0
Excess PbO Target을 사용하여 증착시킨 PZT 박막의 형성 및 그 특성 대한전자공학회 학술대회 1993 0 0
Composite Target으로 중착된 Mo-Silicide의 형성 및 이에 따른 불순물의 거동 ( Behavior of the Implanted Dopants and Formation of Molybdenum Silicide by Composite Sputtering ) 대한전자공학회 학술대회 1992 7 0
TaSi2 형성시 단결정 실리콘 기판에 이온주입된BF2의 거동 ( The Behavior of BF2 Implanted Single Crystalline Si Substrates During the Formation of TaSi2 ) 전자공학회논문지-A 1991 8 0
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성 ( Characteristics of TaSi2 Formed on the Si Wafer Implanted Dopant Ions ) 전자공학회논문지-A 1991 11 0
Si 기판 위에 Mo-Silicides의 형성과 그 특성에 관한 연구 ( A Study on the Properties and Formation of Mo-Silicides on Si-Substrate ) 전자공학회논문지-A 1991 6 0
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성. 대한전자공학회 학술대회 1990 2 0
불순물을 이온주입시킨 실리콘 기판위에 형성된 TaSi2의 특성 ( Characteristics of TaSi2 Formed on the Si Wafer Implanted Dopant Ions ) 대한전자공학회 학술대회 1990 0 0
On the formation of Ta-silicides -2- 대한전자공학회 학술대회 1990 0 0
Ta-Silicides 형성에 관한 연구 - 2 - ( On the Formation of Ta-Silicides - 2 - ) 대한전자공학회 학술대회 1990 0 0
Si 기판 위에 형성된 Mo-silicides에 관한 연구 ( A study of Mo-silicides formed on Si-substrate ) 대한전자공학회 학술대회 1990 2 0
Composite target으로 sputter시켜 형성된 TaSi2의 특성 ( The properties of TaSi2 formed by Stuttering from the composite target ) 대한전자공학회 학술대회 1990 1 0
Ta-Silicides 형성에 관한 연구 ( 1 ) ( On the formation of Ta-Silicides - 1 - ) 대한전자공학회 학술대회 1990 1 0
금속박막의 물리적 성질 ( 1 ) - 증착속도에 따르는 구조변화 - ( Physical Properties of Metal Thin Film ( 1 ) - Changes of Structure with Evaporation Rates - ) 전자공학회논문지 1987 46 0
입사각에 따른 금속 박막의 물성 변화에 관한 연구 대한전자공학회 학술대회 1986 5 0
입사각에 따른 금속 박막의 물성변화에 관한 연구 ( A Study on the Change of Physical Properties of Metal Thin Film with the Angle of Incidence ) 대한전자공학회 학술대회 1986 6 0
증착속도에 따른 금속박막의 구조 변화에 관한 연구 ( A Study on the Change of Structure of Metal Thin Film for Evaporation Rate ) 대한전자공학회 학술대회 1985 10 0