본문 바로가기

이상인 (Sang In Lee)

소속기관
한국지능시스템학회
소속부서
-
직급
-
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 공학 > 전기/제어계측공학
  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
#Affine T-S fuzzy model
#fuzzy observer
#input delay system
#linear matrix inequality
#Markovian jump systems
#Parametric uncertainty
#Piecewise quadratic Lyapunov function
#T-S fuzzy system

저자의 논문 현황

연도별 상세보기를 클릭하시면 연도별 이용수·피인용수 상세 현황을 확인하실 수 있습니다.
피인용수는 저자의 논문이 DBpia 내 인용된 횟수이며, 실제 인용된 횟수보다 적을 수 있습니다.
  • 논문수23
  • 수정 후1985 ~ 2005
  • 논문 추가 요청273
  • 논문명0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
전문가 시스템을 적용한 열차 경합 검지 및 해소 시스템 개발 및 한국철도에 적용 한국지능시스템학회 학술발표 논문집 2005 24 0
입력지연을 갖는 T-S 퍼지 시스템의 관측기기반 출력궤환 확률적 안정화 한국지능시스템학회 논문지 2004 26 0
Controller Design for Affine T-S Fuzzy System with Parametric Uncertainties 한국지능시스템학회 학술발표 논문집 2004 18 0
A Study on the Microstructure of P / TaN / Si Films by High Resolution TEM Analysis 대한전자공학회 학술대회 1998 6 0
저전력 전자공명 수소 플라즈마를 이용한 저온 건식 접촉 구멍 세정화 대한전자공학회 학술대회 1998 3 0
Improvement of Pt / Ta Diffusion Barrier Performance using Hybrid Conductive Oxide ( RuO2 ) for Dynamic Random Access Memory Capacitor 대한전자공학회 학술대회 1998 2 0
초박막 Al2O3의 FRAM EBL ( Encapsulating Barrier Layer ) 특성 고찰 대한전자공학회 학술대회 1998 0 0
Pt / Pb ( Zr , Ti ) O3 / Pt Capacitor에 가해지는 Plasma Etching Damage에 관한 연구 대한전자공학회 학술대회 1998 0 0
SiO2 박막증착에 의한 Pt / Pb ( Zr , Ti ) O3 / Pt 캐패시터의 강유전 특성 약화와 회복 방법에 관한 연구 ( Degradation and Recovery in the Ferroelectric Properties of Pb / Pt ( ZRTi ) O3Pt Capacitor caused by SiO2 Film Deposition ) 대한전자공학회 워크샵 1997 32 0
Film Properties of Amorphous TaN and Ta - ( Si ) - N Deposited from Remote Plasma MOCVD 대한전자공학회 학술대회 1997 5 0
고집적 회로의 트렌치 소자분리를 위한 매립 산화물의 치밀화 연구 ( Densification of the Filled Oxide for VLSI Shallow Trench Isolation ( STI ) ) 대한전자공학회 워크샵 1996 28 0
스퍼터링 공정에 의하여 제작된 Pt / ( Ba , Sr ) TiO3 / Pt Capacitor의 계면 전위 장벽 특성 ( Interface Potential Barrier Height of Pt / ( Ba , Sr ) TiO3 / Pt Capacitors Fabricated by Sputtering Process ) 대한전자공학회 워크샵 1996 22 0
Annealing and Post Heat Treatment Effects of Remote Plasma MOCVD Titanium Barrier Metals 대한전자공학회 학술대회 1996 1 0
Giga 시대의 thin Dielectric 기술 현황 및 미래 대한전자공학회 학술대회 1996 0 0
Remote Plasma MOCVD 법을 사용하여 형성된 Titanium Nitride 박막의 Step Coverage 변화에 관한 연구 대한전자공학회 학술대회 1995 8 0
증착온도와 RTA 후처리에 따른 PECVD-W의 Contact 특성 대한전자공학회 학술대회 1995 0 0
형성조건에 따른 TiN/Ti Barrier Metal의 Al 및 Si 과의 열적 안전성 ( Thermal Stability of TiN/Ti Barrier Metals with Al Overlayers and Si Substrates Modified under Different Annealing Histories ) 전자공학회논문지-A 1993 30 0
다층 배선 구조를 갖는 Sub-Micron CMOS에서의 Contact 평탄화 기술 전자공학회지 1992 14 0
최적조건에서 형성된 TiN / Ti 구조의 Thermal Stability 에 관한 연구 ( Thermal Stability of Optimized TiN / Ti Barrier Metals with Al : 1%Si Overlayers and Si Substrates ) 대한전자공학회 학술대회 1992 6 0
" Stuffed " Barrier Metal 형성조건에 따른 TiN / Ti 의 Al : 1%Si 및 Si 과의 열적 안정성 ( Thermal Stability of " Stuffed " TiN / Ti Diffusion Barriers Formed under Different Thermal History with Al : 1%Si Overlayers and Si Substrate ) 대한전자공학회 학술대회 1992 2 0
더보기