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구경완 (K.W.Koo)

소속기관
대한전자공학회
소속부서
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직급
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연구경력
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
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저자의 논문 현황

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  • 논문수22
  • 발행기간1986 ~ 2001
  • 이용수310
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
고유전율 AlN 절연층을 사용한 비휘발성 강유전체 메모리용 MFIS 구조의 제작 및 특성 전자공학회논문지-SD 2001 70 0
위스퍼링 갤러리 모드 유전체 공진기의 해석 ( Analysis of Whispering GAllery Mode Dielectric Resonator ) 대한전자공학회 학술대회 1998 48 0
A Study on the Removal of Silicon Native Oxide in Contact Holes 대한전자공학회 학술대회 1998 1 0
A Study on Removal of Silicon Native Oxide by Photochemical Gas Phase Reaction 대한전자공학회 학술대회 1997 1 0
UV / ozone을 이용한 실리콘 표면의 Dry Cleaning Process 연구 대한전자공학회 학술대회 1995 13 0
UN-ozone을 이용한 실리콘 표면 세정 효과의 연구 대한전자공학회 학술대회 1994 13 0
Dual ion beam assisted deposition 방법을 이용한 Ta2O5 유전박막의 특성 평가에 관한 연구 대한전자공학회 학술대회 1994 4 0
이극안테나를 이용한 극소형 전계 프로브 설계이론 연구 ( Design of a Miniature E-Field Probe Using Short-Diepole Antenna ) 대한전자공학회 학술대회 1993 13 0
얇은 열산화-질화막의 특성평가 ( Evaluation of Characteristics of Oxidized Thin LPCVD-Si3N4 Film ) 전자공학회논문지-A 1992 32 0
상부산화 조건에 따른 N/O ( SiO2/Si3N4 ) 구조막의 신뢰성 평가 ( Reliability of N/O ( SiO2/Si3N4 ) Films According to Top Oxidation Condition ) 전자공학회논문지-A 1992 10 0
Cast Poly-Si을 이용한 태양전지 제작 및 특성 ( Fabrication and Characterization of Solar Cells Using Cast Polycrystalline Silicon ) 전자공학회논문지-A 1992 23 0
티타늄 살리사이드 공정을 이용한 트랜지스터의 특성 및 오실레이터 I. C에의 적용 ( I ) ( Characteristic of Transistor Using Ti-SALICIDE Process and Its Application to Oscillator I. C ( I ) ) 전자공학회논문지-A 1991 9 0
Ti 살리사이드 공정을 이용한 오실레이터 I . C의 성능향상 ( Improvement on Frequency Characteristic of Crystal Oscillator I . C Using Ti-Salicide Process ) 대한전자공학회 학술대회 1991 0 0
다결정 실리콘 태양전지에서의 결정입계 패시베이션 ( Grain Boundary Passivation in Polycrystalline Silicon Solar Cell ) 대한전자공학회 학술대회 1991 17 0
LPCVD-Si3N4 박막의 열 산화 ( Thermal Oxidation of Thin LPCVD-Si3N4 Film ) 대한전자공학회 학술대회 1990 9 0
N / O ( Si3N4 / SiO2 ) 유전막의 Tddb 특성에 미치는 상부산화조건의 영향 ( Effects of Top OxIdation Condition on Tddb Characteristics of N / O ( Si3N4 / SiO2 ) Dielectric Films ) 대한전자공학회 학술대회 1990 9 0
TEM을 이용한 Poly-Si / SiO2 / W Polycide 다층막의 특성평가 ( Evaluation of Poly-Si / SiO2 / W-Polycide Multi Layered Film Using Cross Sectional TEM ) 대한전자공학회 학술대회 1990 3 0
N/O(Si₃N₄/SiO₂) 유전막의 TDDB 특성에 미치는 상부산화조건의 영향 대한전자공학회 학술대회 1990 2 0
LPCVD-Si3N4 박막의 열 산화 대한전자공학회 학술대회 1990 1 0
TEM을 이용한 『Poly-Si/SiO₂/W Polycide』다층막의 특성평가 대한전자공학회 학술대회 1990 1 0
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