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조경익 (K.I.Cho)

소속기관
대한전자공학회
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직급
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연구경력
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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저자의 논문 현황

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  • 논문수31
  • 발행기간1982 ~ 2003
  • 이용수353
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
IEEE 802.11 MAC과 호환성을 갖는 Prioritized DIFS/Backoff/Frame를 통해 차등화된 서비스를 제공하는 메커니즘 대한전자공학회 학술대회 2003 5 0
Real-Time MultiMedia Data 전송을 위한 새로운 방식의 DCF 프로토콜 대한전자공학회 학술대회 2003 3 0
FED 기술동향 및 발전전망 전자공학회지 2001 20 0
비정질 실리콘 박막 트랜지스터에 의한 전계방출기 어레이의 능동제어 대한전자공학회 학술대회 2000 3 0
Electron Emission From Pd-Coated Silicon Field Emitter Arrays 대한전자공학회 학술대회 1998 0 0
Integration of Field Emitter Array and Thin-Film Transistor Using Polycrystalline Silicon Process Technology 대한전자공학회 학술대회 1998 0 0
절연막을 평탄층으로 이용한 금속선 형성 공정 연구 ( A Study on Metal Line Deposition Process by Using Dielectric Film as a Planarizing Layer ) 대한전자공학회 학술대회 1992 5 0
자기정렬된 WSi게이트 MESFET의 DC특성 ( The DC Characteristics of Self-Aligned WSi Gate MESFET ) 대한전자공학회 학술대회 1992 2 0
TiSi2와 다결정 실리콘에 이온주입된 As계에서 TiAs침전물형성에 관한 고분해능 TEM 연구 ( High-Resolution TEM Study on TiAs Precipitate Formation Between TiSi2 and As Doped in Poly-Silicon ) 전자공학회논문지-A 1991 13 0
C54구조의 TiSi2와 As 이온 주입된 다결정 Si계에서 고온 열처리에 의한 표면상태 거칠어짐과 TiAs 침전물 형성에 관한 연구 ( Investigation of TiAs Precipitate Formation and Morphology Degradation between TiSi2 with C54 Structure and Poly Silicon Doped with Arsenic ) 전자공학회논문지 1990 22 0
반도체 소재의 물성분석 기술 개발 동향 전자공학회지 1990 40 0
Ellipsometry방법에 의한 이온 주입 단결정 실리콘의 비정질층 두께 측정 연구 ( Evaluation of the Amorphous Layer Thickness in Implanted Silicon by Ellipsometry ) 대한전자공학회 학술대회 1989 13 0
소자분리를 위한 선택적 실리콘 에피택시 ( Selective Si Epitaxy for Device Isolation ) 전자공학회논문지 1986 20 0
Tiw, A1/Tiw 박막의 저항특성및 annealing 효과 대한전자공학회 학술대회 1986 5 0
Trench isolation을 사용한 다이오드의 전기적 특성 대한전자공학회 학술대회 1986 2 0
TiW , AI / TiW 박막의 저항특성 및 annealing 효과 ( Sheet Resistance and Annealing Effects of Thin TiW , AI / TiW Films ) 대한전자공학회 학술대회 1986 7 0
Trench isolation을 사용한 다이오드의 전기적 특성 ( The Electrical Characteristics of diode using trench isolation ) 대한전자공학회 학술대회 1986 6 0
선택적 에피택시를 위한 에피택셜층 및 폴리실리콘의 성장과 에칭 ( Growth and Etching of Epitaxial Layer and Polysilicon for the Selective Epitaxy ) 전자공학회지 1985 63 0
LPCVD법으로 제작한 이산화 실리콘 막의 전기적 특성 ( The Electrical Properties of Silicon Dioxide Film Fabricated with LPCVD ) 대한전자공학회 학술대회 1985 2 0
HCI 가스에 의한 실리콘 기판의 에칭 ( Vapor Etching of Silicon Substrates with HCI Gas ) 전자공학회지 1984 31 0
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