본문 바로가기

이중환 (Joong-Hwan Lee)

소속기관
금오공과대학교
소속부서
메디컬IT융합공학과
직급
-
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
-

저자의 논문 현황

연도별 상세보기를 클릭하시면 연도별 이용수·피인용수 상세 현황을 확인하실 수 있습니다.
피인용수는 저자의 논문이 DBpia 내 인용된 횟수이며, 실제 인용된 횟수보다 적을 수 있습니다.
  • 논문수12
  • 발행기간1983 ~ 2015
  • 이용수342
  • 피인용수0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
플렉서블 pH센서 대한전자공학회 학술대회 2015 37 0
CHF3 / C2F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향 ( The Effects of Photoresist Layer on the Characteristics of Si-Surface Residue Induced by CHF3 / C2F6 Reactive Ion Eching ) 대한전자공학회 학술대회 1991 21 0
반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구 ( Charaterization of Si-Surface Residues Caused by Reactive Ion Etching ) 대한전자공학회 학술대회 1991 3 0
반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구 대한전자공학회 학술대회 1991 6 0
CHF₃/ C₂F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향 대한전자공학회 학술대회 1991 3 0
TiSi2와 다결정 실리콘에 이온주입된 As계에서 TiAs침전물형성에 관한 고분해능 TEM 연구 ( High-Resolution TEM Study on TiAs Precipitate Formation Between TiSi2 and As Doped in Poly-Silicon ) 전자공학회논문지-A 1991 13 0
반도체 소재의 물성분석 기술 개발 동향 전자공학회지 1990 40 0
연속적 급속열처리법에 의한 재산화질화산화막의 특성 ( Characteristics of Reoxidized-Nitrided-Oxide Films Prepared by Sequential Rapid Thermal Oxidation and Nitridation ) 전자공학회논문지 1990 29 0
금속열처리법에 의한 재산화질화산화막 ( Reoxidized-Nitrided-Oxide Film Formed by Rapid Thermal Processing ) 대한전자공학회 학술대회 1989 2 0
이중확산 방법에 의한 수직구조형 전력용 MOSFET의 설계 및 공정 ( Design and Process of Vertical Double Diffused Power MOSFET Devices ) 전자공학회논문지 1986 30 0
LPCVD 및 PECVD 시스템 전자공학회잡지 1983 131 0
LPCVD System 대한전자공학회 단기강좌 1983 27 0