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홍종성 (J. S. Hong)

소속기관
대한전자공학회
소속부서
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직급
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ORCID
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연구경력
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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저자의 논문 현황

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  • 논문수7
  • 발행기간1990 ~ 2000
  • 이용수80
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
고온스퍼터링법으로 제작된 티타늄실리사이드의 구조적 전기적 특성 연구 대한전자공학회 학술대회 2000 6 0
플라즈마 Silane 환원 반응에 의한 텅스텐 박막의 증착 ( Tungsten Thin Films Deposited by the Plasma Silane Reduction Process ) 전자공학회논문지-A 1991 15 0
플라즈마 화학 증착 텅스텐 박막의 특성에 미치는 수소분압의 영향 ( Effects of H2 / WF6 Input Ratio on the Properties of PECVD-W Thin Films ) 대한전자공학회 학술대회 1991 10 0
갈륨비소위에 플라즈마 화학 증착한 텅스텐 박막의 특성연구 ( Properties of Tungsten Films Grown on GaAs by PECVD ) 대한전자공학회 학술대회 1991 2 0
플라즈마 화학증착 텅스텐 박막 특성에 미치는 표면 반응온도의 영향 ( Effects of Surface Reaction Temperature on the Properties of Plasma Enhanced CVD Tungsten Thin Films ) 대한전자공학회 학술대회 1990 16 0
SiH4 / WF6 변화에 따른 플라즈마 화학증착 텅스텐의 플라즈마 분광분석 ( II ) ( Plasma Emission Spectroscopy of Plasma Enhanced CVD-W Deposition with the Variations of SiH4 / WF6 Ratio ) 대한전자공학회 학술대회 1990 17 0
플라즈마 화학증착법 및 진공 화학 증착법에 의한 텅스텐 박막의 특성 비교 ( I ) ( Characteristic Comparison of Plasma Enhanced CVD and Vacuum CVD Tungsten Thin Films ) 대한전자공학회 학술대회 1990 14 0