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이다솔 (Dasol Lee)

소속기관
부산대학교
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대학원 기계공학부
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저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
#Atomization
#broadband(광대역)
#Ceria slurry
#Chemical mechanical planarization
#Chemical mechanical planarization (화학 기계적 평탄화 공정)
#Chemical mechanical planarization (화학기계적연마)
#Chemical mechanical planarization (화학적 기계적 평탄화)
#Chemical mechanical planarization (CMP)
#CMP
#CMP(Chemical Mechanical Planarization)
#CMP(Chemical Mechanical Planarization)(화학적 기계적 평탄화)
#Conditioning disk
#Conditioning simulation
#Contact mode (접촉 모드)
#Copper
#Copper CMP(구리 화학기계적연마)
#Copper pattern
#Daytime
#Defect
#Device pattern(디바이스 패턴)
#dielectrics(유전체)
#Dishing
#Distribution of asperity height (돌기 높이 분포)
#Dynamic material properties
#Dynamic material properties (동적 재료 물성)
#Edge-over-Erosion
#Finite element analysis
#Finite element analysis (유한요소해석)
#Flow rate
#grating(격자구조)
#Hardness(경도)
#hologram(홀로그램)
#Injection
#In-process
#Lubrication (윤활)
#Material removal rate
#Mathematical modeling
#Mathematical modeling (수학적 모델링)
#Mechanism(메커니즘)
#metasurface(메타표면)
#Modeling(모델링)
#Multi-nozzle(다중 노즐)
#Multiple spray nozzle
#Nano-indentation(나노압입시험기)
#Non-uniformity(연마균일도)
#Oxidation behavior
#Oxygen gas
#Package substrate
#Pad asperity
#Pad asperity (패드 돌기)
#Pad asperity(패드 돌기)
#Pad conditioning
#Pad wear profile
#Pattern size
#Pattern size (패턴 크기)
#Planarization modeling (평탄화 모델링)
#plasmonic(플라즈모닉)
#polarization-sensitive(편광 감응형)
#Polishing pad
#Pressure distribution(압력 분포)
#Radiative cooling
#Selective emitter
#Slurry
#Slurry distribution
#Slurry supply system
#Slurry temperature(슬러리 온도)
#Slurry thickness
#structural color(구조색)
#Temperature
#Temperature profile
#Thin film surface
#Tunable absorber(가변흡수체)
#Viscoelastic
#Viscoelasticity
#Viscoelasticity (점탄성)
#WIWNU(Within Non-Uniformity)

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  • 논문수52
  • 발행기간2014 ~ 2020
  • 이용수1,212
  • 피인용수0

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