본문 바로가기

김창훈 (Chang Hoon Kim)

소속기관
삼성 광통신
소속부서
정보통신공학과
직급
-
ORCID
-
연구경력
-

주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

저자의 연구 키워드
-

저자의 논문 현황

연도별 상세보기를 클릭하시면 연도별 이용수·피인용수 상세 현황을 확인하실 수 있습니다.
피인용수는 저자의 논문이 DBpia 내 인용된 횟수이며, 실제 인용된 횟수보다 적을 수 있습니다.
  • 논문수14
  • 발행기간1983 ~ 2010
  • 이용수291
  • 피인용수0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
CMOS Image Sensor의 Pixel Size 비교 분석을 통한 카메라 모듈 이미지 평가 대한전자공학회 학술대회 2010 138 0
CMOS Image Sensor의 Pixel Size 비교 분석을 통한 카메라 모듈 이미지 평가 대한전자공학회 학술대회 2010 41 0
GF(2m)상의 고속 타원곡선 암호프로세서의 FPGA 구현 대한전자공학회 학술대회 2006 8 0
다정도 CSA를 이용한 확장성 있는 Montgomery 곱셈기 설계 대한전자공학회 학술대회 2006 2 0
정밀 과금을 위한 컨텐츠기반 인터넷 응용 트래픽 측정 및 분석 전자공학회논문지-TC 2003 28 0
차세대 품질 서비스 제공을 위한 지능형 MPLS 트래픽엔지니어링 서버 시스템 전자공학회논문지-TC 2003 19 0
영상의 소유권 보호와 변질검증을 위한 다중 워터마킹 방식 대한전자공학회 학술대회 2002 0 0
유한 필드 GF(2m)상의 모듈러 곱셈기 특성 분석 대한전자공학회 학술대회 2002 1 0
Soft Computing을 이용한 자동 변속 시스템 개발 대한전자공학회 학술대회 2001 1 0
컴팩트 디스크를 위한 Reed Solomon 부호기 / 복호기 설계 대한전자공학회 학술대회 2000 3 0
광학식 디스크를 위한 Reed Solomon 복호기 설계 대한전자공학회 학술대회 2000 3 0
박막트랜지스터의 채널 내에 형성된 금속 유도 측면 결정화의 경계가 누설전류에 미치는 영향 ( Effect of Metal-Induced Lateral Crystallization Boundary Located in the TFT Channel Region on the Leakage Current ) 전자공학회논문지-SD 2000 30 0
이온 질량 주입이 금속 유도 측면 결정화에 미치는 영향 ( Effect of Ion Mass Doping on Metal-Induced Lateral Crystallization ) 전자공학회논문지-SD 2000 17 0
Analog-Compatible I2L을 이용한 집적회로의 설계 대한전자공학회 학술대회 1983 0 0