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김보우 (Bo Woo Kim)

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한국전자통신연구원
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주요 연구분야

  • 공학 > 전자/정보통신공학

저자의 연구 키워드

저자가 작성한 논문들의 주요 키워드입니다.

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저자의 논문 현황

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  • 논문수51
  • 발행기간1983 ~ 2004
  • 이용수869
  • 피인용수0

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  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
저주파 잡음이 억압된 5.5 ㎓ 전압제어발진기 대한전자공학회 학술대회 2004 14 0
High-Q 병렬분기 인덕터를 내장한 2.4 ㎓ SiGe VCO 대한전자공학회 학술대회 2004 13 0
소자 분야 - 고속 MCM 배선의 전기적 특성 및 임계길이 평가 전자공학회논문지-D 1998 8 0
강유전체 메모리 기술 현황 및 전망 전자공학회지 1998 105 0
강유전체와 절연체의 여러가지 변수에 따른 MFSFET의 특성 대한전자공학회 학술대회 1998 2 0
A Novel Anti-Reflective Structure for Metal Layer Pattering 대한전자공학회 학술대회 1998 0 0
BaMgF4 유전막을 가지는 강유전체 트랜지스터의 특성 ( Characterizations of Ferroeletric Transistors with BaMgF4 Dielectric ) 대한전자공학회 워크샵 1997 11 0
A Novel X-ray Mask for Mix-and-Match of Optical and Synchrotron Radiation X-ray Lithography Applied in Sol Device Fabrication 대한전자공학회 학술대회 1997 1 0
Hysteretic Characteristics of Ferroelectric Poly-SI Source / Drain Transistor ( FPOST ) ICVC : International Conference on VLSI and CAD 1997 1 0
Metal-Ferroelectric-Semiconductor Field-Effect Transistor Singl Transistor Memory 대한전자공학회 학술대회 1997 0 0
딥 서브 마이크로미터 MOSFET 제작을 위한 싱크로트론 방사광 X-선 리소그래피 기술 대한전자공학회 워크샵 1996 25 0
Electrical Characteristics of Thin Oxide Grown by High-Pressure Oxidation with Rapid Thermal Nitridation 대한전자공학회 학술대회 1996 1 0
Fabrication and Characteristics of a Polysilicon Resistor with Low Temperature Coefficient 대한전자공학회 학술대회 1996 0 0
LSI 급 소자 제작을 위한 3 인치 GaAs MBE 에피택셜 기판의 균일도 특성 연구 ( A Study on Characteristics of Si doped 3 inch GaAs EPITAXIAL Layer Grown by MBE for LSI Application ) 전자공학회논문지-A 1994 10 0
X-선 리소그래픽을 이용하여 제작한 0.2μm n-MOSFET의 특성 대한전자공학회 학술대회 1994 1 0
CHF3/C2F6 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 오염 및 제거에 관한 연구 ( A Study on the Silicon surface and near-surface contamination by CHF3/C2F6 RIE and its removal with thermal treatment and O2 plasma exposure ) 전자공학회논문지-A 1993 81 0
초고집적 소자 제조를 위한 건식 식각 기술 동향 전자공학회지 1991 29 0
CHF3 / C2F6 반응성 이온 건식 식각시 실리콘 표면 잔류막 특성 변화에 미치는 감광막 마스크의 영향 ( The Effects of Photoresist Layer on the Characteristics of Si-Surface Residue Induced by CHF3 / C2F6 Reactive Ion Eching ) 대한전자공학회 학술대회 1991 20 0
반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구 ( Charaterization of Si-Surface Residues Caused by Reactive Ion Etching ) 대한전자공학회 학술대회 1991 3 0
반응성 이온 건식식각에 의해 형성된 실리콘 표면 잔류막의 특성연구 대한전자공학회 학술대회 1991 6 0
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