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김두산

소속기관
성균관대학교
소속부서
신소재공학과
직급
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ORCID
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연구경력
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주요 연구분야

  • 자연과학 > 물리학
  • 공학 > 기계공학

저자의 논문 현황

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  • 논문수20
  • 발행기간2015 ~ 2020
  • 이용수116
  • 피인용수0

논문제목를 인용한 논문목록입니다.

  • 피인용 논문 제목
    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 1 0
낮은 GWP의 C₃H₂F6 기반 화합물의 Ultra Low-k Dielectirc 식각 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 0 0
Anisotropic Atomic Layer Etching of W by Fluorination-Oxidation Cyclic Process 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 0 0
Cyclic Dry Cleaning Process of silicon oxide using OF₂/NH₃ Mixture Gas 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 0 0
Reactive Ion Beam Etching of CoFeB for Non-volatile Magnetic Random Access Memories 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 0 0
Reactive Ion Etching of Ovonic Threshold Switch (OTS) Material using Hydrogen based Plasmas for PRAM device 한국진공학회 학술발표회초록집 2020 0 0
Atomic Layer Etching of Tungsten using NF₃/O₂ plasma 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 3 0
Selectively Dry Cleaning of Silicon Oxide using Cyclic Process 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 1 0
Study on Reactive Ion Etching of PRAM material using Hydrogen based Gases 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 1 0
이온빔을 이용한 Cr 원자층 식각 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 15 0
Study on Cyclic Dry Cleaning Process using OF₂/NH₃ Remote Plasma 한국진공학회 학술발표회초록집 2019 4 0
할로겐 가스 기반의 반응성 이온 식각을 이용한 PRAM 재료 식각 연구 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2018 11 0
Etch Characteristics of Silicon-based Materials using ClF₃/NxO Mixture Gases 한국진공학회 학술발표회초록집 2018 1 0
Remote Plasma를 이용한 실리콘 산화막에 대한 건식세정 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2018 30 0
이온빔을 이용한 Black Phosphorus 식각 연구 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2017 14 0
Improvement of adhesive force between metal and composite materials using plasma press method 한국진공학회 학술발표회초록집 2017 2 0
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석 한국진공학회 학술발표회초록집 2017 6 0
C₃F6O/O₂ 혼합 가스의 SiO₂, Si₃N₄에 대한 식각 특성분석 한국진공학회 학술발표회초록집 2017 3 0
Contact block copolymer technique을 이용한 실리콘 나노-필라 구조체 제작방법 한국진공학회 학술발표회초록집 2015 11 0
잉크젯 프린팅 적용을 위한 플라즈마 식각에 의한 폴리이미드 기판 조도생성 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2015 13 0