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최치규 (Chi Kyu Choi)

소속기관
제주대학교
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물리학과
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주요 연구분야

  • 자연과학 > 물리학

저자의 연구 키워드

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  • 논문수41
  • 발행기간1992 ~ 2012
  • 이용수547
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    • 피인용 논문 저자
게시판 목록
논문명 저널명 발행연도 이용수 피인용수
Advanced Low-k Materials for Cu/Low-k Chips 한국진공학회 학술발표회초록집 2012 11 0
Cu diffusion behavior in SiOC(-H) films with annealed Cu/SiOC(-H)/ p-Si(100)/Al metal-insulator-semiconductor (MIS) structures 한국진공학회 학술발표회초록집 2009 9 0
Interfaces properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition 한국진공학회 학술발표회초록집 2009 2 0
Leakage current and electrical breakdown in plasma enhanced chemical vapor deposited low dielectric constant SiOC(-H) films 한국진공학회 학술발표회초록집 2009 2 0
Silicidation Properties of Atomic Layer Deposited Nickel Film using by Rapid Thermal Process 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 10 0
Electric field induced second harmonic generation in SiOC(-H) thin films 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 1 0
Electrical properties of u/TaN/SiOC(-H)/p-Si(100) low- k dielectric stack 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 0 0
Interface characterization and current conduction in low-k SiOC(-H) thin films 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 0 0
Low-k thin film interface studies by using second harmonic generation 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 0 0
Plasma parameters of the low dielectric constant SiOC(-H) thin films during the PECVD process 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 4 0
Evaluation of ultra low dielectric constant SiOC(-H) thin films for advanced interconnects 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 2 0
Structural and electronic properties of low dielectric constant SiOC(-H) films deposited by using PECVD from DMDMS/O₂ precursors 한국진공학회 학술발표회초록집 2008 1 0
후 열처리에 따른 저유전율 SiOC(-H) 박막의 특성 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 20 0
A Trend and the Developments of Low Dielectric Constant materials for Cu Integration 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 6 0
A Study on the Characteristics of Low Dielectric Constant SiOC(-H) Films Deposited with Various Substrate Temperature 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 3 0
A Study for Properties of SiOC(-H) Thin Films with Low-κ Formed by UV-Assisted PECVD Method 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 1 0
An investigation of ultra low dielectric constant SiOC(-H) thin films for interconnect technology : Understanding the requirements 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 0 0
Chemical Bonding Structures of Low-k SiOCH films with HMDSO and O₂ precursors deposited by PECVD 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 51 0
Electrical properties of Al/SiOCH/p-Si(100) structure with HMDSO/O₂ precursors deposited by PECVD 한국진공학회 학술발표회초록집 2007 23 0
TCPCVD방법에 의해 형성된 SIOC(-H)박막의 형성과 특성에 관한 연구 한국진공학회 학술발표회초록집 2005 16 0
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