성형 빔 패턴을 갖는 전기적인 다운 틸팅 안테나의 설계에 관한 연구

이창은; 허정

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자료유형: 학술저널

저자정보: 이창은 허정

저널정보: 대한전자공학회 전자공학회논문지-TC 전자공학회논문지 TC편 제42권 제1호

발행연도: 2005.1

수록면: 111 - 118 (8page)

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기지국 안테나의 수직 패턴 형태는 자기 셀뿐만 아니라 인접 셀의 통신 품질에도 크게 영향을 미치므로, 셀의 설계에 있어서 매우 중요한 고려 사항이다. 현재 기지국 안테나에 적용되는 수직 패턴의 형태는 크게 5가지로 분류될 수 있다. 안테나의 설계에 있어서, 5가지의 수직 패턴은 단독으로 적용되기도 하고, 또는 복합적으로도 적용될 수 있다. 본 논문에서는 상측의 부엽이 억압되고, 하측의 널이 널 필링된 수직 패턴을 갖으며, 또한, 수직면 상에서 연속적인 전기적 다운 틸팅이 가능한 이중 편파의 기지국용 안테나를 설계 및 제작하였다. 성형 빔 합성은 R S Elliott이 제안한 패턴 합성법들을 순차적으로 사용하여 구현하였으며, 또한 전기적인 다운 틸팅 기능을 위해 위상 배열 안테나 기술이 적용되었다. 측정한 결과, 0˚-14˚의 연속적인 다운 틸팅 범위와 13.3dBi 이상의 이득, 그리고 최대 -23dB의 상측 부엽 성능이 나타났다. 또한, 다운 틸팅 시에도 상측 부엽의 변화가 크지 않음을 확인할 수 있었으며, 패턴의 널 필링 특성도 전반적으로 양호하다.

참고문헌 (7)

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[학술지(정기간행물)] - / 1997년9-10월. / 정형 빔 안테나에 의한 CDMA 통신 시스템 성능 향상 7 (5)

[학술지(정기간행물)] - / 2004년7월. / 전기적 다운 틸팅 기능을 갖는 이중 편파 기지국 안테나 개발 41 (7) : 81 ~ 88

[학술지(정기간행물)] - / 1976. / Design of Line-Source Antennas for Sum Patterns With Sidelobes of Individually Arbitrary Heights ap-24 : 76 ~ 83

[학술지(정기간행물)] - / 1984. / A New Technology for Shaped Beam Synthesis of Equispaced Arrays ap-32 : 1129 ~ 1133

[학술지(정기간행물)] - / 1984. / Optimizing the Synthesis of Shaped Antenna Patterns : 63 ~ 68

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이창은

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주요연구분야 공학 > 전기전자공학 > 정보통신공학 공학 > 컴퓨터학

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허정

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