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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.8
- 수록면
- 6 - 13 (8page)
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각 종 전자 디바이스의 투명전도막으로 많이 사용되는 ITO 및 ZnO：Al 박막을 스퍼터링법에 의해 제작하였다. 가스압력 및 기판온도 등의 최적조건하에서 제작된 ITO 및 ZnO：Al 박막은 각각 1.67×10?³[Ω-㎝] 및 2.2×10?³[Ω-㎝]의 비저항율과 89.61[%] 및 90.88[%]의 가시광 영역에서의 광투과율을 나타내었다.
ZnO：Al과 ITO 투명전극을 이용하여 5인치의 PDP 셀을 동일한 제조조건하에서 제작하였다. ZnO：Al의 경우 Ne(base)-Xe(8%)의 가스 혼합비, 그리고 400[Torr]의 압력조건에서 가장 잘 동작되었으며, 200～300[V]의 인가전압 범위에서 836[cd/㎡]의 평균휘도를 나타내었다. 고휘도 및 저 소비전력특성을 위한 중요한 파라메타인 광효율은 전원 주파수가 10～50[Khz]의 범위에서 1.2～1.6[lm/W]정도를 나타내었으며, ITO의 경우 휘도 및 광 발생 효율은 약 10[%]정도 상승하였다.
ZnO：Al과 ITO 투명전극을 이용하여 5인치의 PDP 셀을 동일한 제조조건하에서 제작하였다. ZnO：Al의 경우 Ne(base)-Xe(8%)의 가스 혼합비, 그리고 400[Torr]의 압력조건에서 가장 잘 동작되었으며, 200～300[V]의 인가전압 범위에서 836[cd/㎡]의 평균휘도를 나타내었다. 고휘도 및 저 소비전력특성을 위한 중요한 파라메타인 광효율은 전원 주파수가 10～50[Khz]의 범위에서 1.2～1.6[lm/W]정도를 나타내었으며, ITO의 경우 휘도 및 광 발생 효율은 약 10[%]정도 상승하였다.
목차
요약
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. ITO 및 ZnO：Al 투명전도막의 제작
4. AC PDP 셀의 제작 및 광학적 특성
5. 결론
References
저자소개
참고문헌 (9)
참고문헌 신청
R. Tueta and M. Braguier, “Fabrication and characterizations of Indium Tin Oxide thin films for electroluminescent applications”, Thin Solid Films, Vol.80, No.1, p.143, 1981.
황득규, “ZnO계 소자 연구 동향”, 전기전자재료학회지, 제15권, 제6호, p.35, 2002.
Woon-Jo Jeong, Gye-Choon Park, “Electrical and optical properties of ZnO film as a function of deposition parameters”, Solar Energy Material ＆ Solar Cells, 65, pp.37∼45, 2001.
Yasuhiro Igasaki, et. al., “Argon gas pressure dependence of the properties of transparent conducting ZnO：Al films deposited on glass substrates”, Applied Surface Science, pp.169∼170, p.509, 2001.
정운조 외, “스퍼터링법에 의한 ZnO 투명전도막의 제작과 전기적 특성”, 센서학회지, 제6권, 1호, pp.49∼54, 1997.
황득규, “ZnO계 소자 연구 동향”, 전기전자재료학회지, 제15권, 제6호, p.35, 2002.
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