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이용수
1. 서론
2. 본론
3. 결과
참고문헌
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내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) System에서 자장이 플라즈마와 PR 식각특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
Double comb. type의 내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) system에서 자장이 플라즈마 특성에 미치는 영향에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2004 .05
대면적 플라즈마 공정을 위한 내장형 선형 안테나을 이용한 유도결합형 플라즈마에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구
KEPCO Journal on electric power and energy
2015 .01
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2018 .10
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2019 .07
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
Large Area Plasma Characteristics using Internal Linear ICP (Inductively Coupled Plasma) Source for the FPD processing
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
고진공에서의 Inductively Coupled Plasma 특성 진단
대한전기학회 학술대회 논문집
2020 .07
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2014 .05
Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .10
O₂와 N₂ 플라즈마를 이용한 감광제의 패턴 축소 연구
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
INDUCTIVELY COUPLED PLASMA (ICP) OXIDATION FOR LOW-TEMPERATURE POLY-Si THIN FILM TRANSISTORS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
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