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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
1999 .09
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향
전기학회논문지 C
2000 .08
자화 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
2000 .04
유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 및 InP의 건식 식각에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
자화된 평판형 유도 결합 플라즈마의 특성 및 건식 식각에의 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 백금 박막의 건식 식각시 산소 가스 첨가 효과
전기학회논문지 C
1999 .06
$Cl_2$-ICP를 이용한 Doped GaN 식각의 공정변수적 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
Dry etching of BST thin films using inductively coupled plasma
대한전기학회 학술대회 논문집
2004 .11
유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구 ( Studies on Chemical Wet Etching of GaN )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
Inductively Coupled chlorine-Based Plasma Etching of the GaN for Optoelectronic Device Application
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .10
A Study of Dry Etch Mechanism of the GaN using Plasma Mass Spectrometry
한국표면공학회지
1999 .06
p-GaN/AlGaN/GaN E-mode FET 제작을 위한 선택적 GaN 식각 공정 개발
한국정보통신학회논문지
2020 .02
Characteristics of Be doped GaN growth using single GaN precursor
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
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