상세검색
검색어 입력 검색어는 최대 5개까지 추가하실 수 있습니다.
비밀번호 변경 안내
비밀번호를 변경하신 지 90일 이상 지났습니다.
개인정보 보호를 위해 비밀번호를 변경해 주세요.
비밀번호 변경 안내
비밀번호를 변경하신 지 90일 이상 지났습니다.
개인정보 보호를 위해 비밀번호를 변경해 주세요.
- 학술저널
- 대한산업공학회
- 대한산업공학회지
- 대한산업공학회지 제38권 제1호
- 2012.03
- 46 - 56 (11 pages)
- KCI우수등재
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-530-003629325
초록
The purpose of virtual metrology (VM) in semiconductor manufacturing is to predict every wafer’s metrological values based on its process equipment data without an actual metrology. In this paper, we propose novelty detection-based reliability estimation models for VM in order to support flexible utilization of VM results.
Because the proposed model can not only estimate the reliability of VM, but also identify suspicious process variables lowering the reliability, quality control actions can be taken selectively based on the reliance level and its causes. Based on the preliminary experimental results with actual semiconductor manufacturing process data, our models can successfully give a high reliance level to the wafers with small prediction errors and a low reliance level to the wafers with large prediction errors. In addition, our proposed model can give more detailed information by identifying the critical process variables and their relative impacts on the low reliability.
목차
1. 서론
2. 이상치 탐지 기반 가상 계측 결과 신뢰도 및 설비변수 영향력 추정
3. 실험 설계
4. 실험 결과
5. 결론 및 향후 연구 방향
참고문헌
이 논문을 인용한 논문 (10)
-
1.
-
2.
-
3.
-
4.
-
5.
-
6.
-
7.
-
8.
-
9.
-
10.
함께 이용한 논문(5)
-
1.
-
2.
-
3.
-
4.
-
5.
추천 논문(5)
-
1.
-
2.
-
3.
-
4.
-
5.
리뷰(0)
도움이 되었어요.0
도움이 안되었어요.0
도움이 되었어요.0
도움이 안되었어요.0
