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원자력현미경(AFM) tip을 표면 처리하여 임프린트용 acrylate 레진과의 접착력을 측정하였다. 표면 처리를 하지 않은 실리콘 tip에 비하여 CH4 플라즈마로 소수성 처리한 경우 접착력은 38% 감소한 반면 친수성의 O2 플라즈마로 처리한 경우에는 접착력이 1.6 배 증가하였다. 이러한 AFM 결과들은 정성적 실험 결과 밖에 얻을 수 없는cross-cut 접착실험에 비하여 매우 구체적인 정량적 결과들을 제공하였다. 나노 크기의 임프린트 패턴을 전사하는 경우, 몰드와 레진 사이 접촉 면적이 커져서 시료 전체의 접착력이 커지기 때문에 패턴 크기가 작아지는 나노임프린트 공정에서는 몰드 표면 처리 문제가 더욱 중요하게 되는 것을 알 수 있었다.
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1. [학술지(정기간행물)] - S. Y. Chou / 1995 / / Appl. Phys. Lett. 67 : 3114 ~
2. [학술지(정기간행물)] - J. Haisma / 1996 / / J. Vac. Sci. Technol. B 14 : 4124 ~
3. [학술지(정기간행물)] - M. Austin / 2004 / / Appl. Phys. Lett. 84 : 5229 ~
4. [학술지(정기간행물)] - D. Morihara / 2009 / / Microelectron. Eng. 86 : 684 ~
5. [학술지(정기간행물)] - S. Thoms / 2004 / / J. Vac. Sci. Technol. B 22 : 3271 ~
2. [학술지(정기간행물)] - J. Haisma / 1996 / / J. Vac. Sci. Technol. B 14 : 4124 ~
3. [학술지(정기간행물)] - M. Austin / 2004 / / Appl. Phys. Lett. 84 : 5229 ~
4. [학술지(정기간행물)] - D. Morihara / 2009 / / Microelectron. Eng. 86 : 684 ~
5. [학술지(정기간행물)] - S. Thoms / 2004 / / J. Vac. Sci. Technol. B 22 : 3271 ~
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