Advanced Chemically Amplified Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김일호 ,  김경철 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically amplified silicon-containing cycloaliphatic photoresists : their synthesis and application to 193-nm lithography

김진백 ,  이재준 ,  이관구

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically Amplified Silicon-containing Positive Photoresists for DUV Lithography

박상진 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .10

Chemically Amplified Photoresists for ArF Excimer Laser Lithography

김영대 ,  강영종 ,  이해원

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

The Investingation of Defect Generation by Water Droplet on the Chemically Amplified Photoresist

김정훈 ,  안성일 ,  김재현 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .04

Properties of Chemically Amplified Photoresist Containing N - Hydroxyphthalimide Sulfonate Groups

채규호 ,  오약전

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1993 .10

A Novel 193 nm Photoresist Containing Silicon Compound

손민석 ,  강영종 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2001 .04

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Photoresist Technology

김진백

대한전자공학회 워크샵

1989 .01

Charge Reducing Effect of Chemically Amplified Resist

Tetsu ,  o Nakasugi ,  Shunko Magoshi 외 5명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Photoresist 용 Novolak Resin 의 특성 (Ⅱ)

서동철 ,  김성주 ,  김지홍 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

A Novel Positive Photoresists Based on Silicon-containing Methacrylate for 193 nm Lithography

김성수 ,  김일호 ,  김용렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .10

Synthesis and Properties of Functional Phenolic Resins

Ata ,  u Kobayashi ,  Tsuyoshi Kimu 외 6명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2006 .10

Advanced Photoresist Based on Silicon-containing Methacrylate for 193nm Lithography

김경철 ,  김일호 ,  김응렬 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .10

정보기능용 고분자 ( Photoresist )

김진백

고분자 과학과 기술

1990 .11

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Performance Improvement of Rubber Modified Novel Phenolic Resin

장정식 ,  서동열

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .04

PR(Photoresist) 분사량 측정에 관한 연구

신동원 ,  이성영 ,  김상식 외 2명

대한전자공학회 학술대회

2008 .06

Structure Development in a Phenolic Resins / Thermoplastic Polymers Blends : Effect of Functionality of Phenolic Resins and Tg of P ( MMA - EA )

김봉섭

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10