급속 열처리 온도 변화에 따른 AZO 박막의 구조, 전기 및 광학적 특성

정재용; 조신호

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자료유형: 학술저널

저자정보: 정재용 조신호

저널정보: 한국전기전자재료학회 전기전자재료학회논문지 전기전자재료학회논문지 제23권 제4호

발행연도: 2010.1

수록면: 280 - 286 (7page)

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We have investigated the influence of rapid thermal annealing (RTA) temperature on properties of Al-doped zinc oxide (AZO) thin films deposited on glass substrate by using radio-frequency magnetron sputtering. The RTA is performed in a nitrogen ambient in the temperature range from 300 to 600℃ for 1 minute in a rapid thermal annealer after growing the AZO thin films. The crystallographic structure and the surface morphology of AZO thin film are measured by using X-ray diffraction, and atomic force microscopy and scanning electron microscopy, respectively. The optical transmittance of the deposited thin films is examined in the wavelength range of 300-1100 nm, where the average transmittance is above the 90% in the visible and near-infrared regions. The optical bandgap is calculated from the Tauc's model, and it shows a significant dependence on the RTA temperature. As for the electrical properties of the thin films, the AZO thin film annealed at 400℃ shows the lowest electrical resistivity of 8.6×10-3 Ω㎝ and the Hall mobility of 11.3 cm²/V-sec. These results suggest that the RTA temperature is an important parameter to influence on the structural, electrical, and optical properties of AZO thin films.

#AZO #Thin film #RF magnetron sputtering #Rapid thermal annealing

참고문헌 (15)

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C. Y. Hsu / 2008 / Influence of ZnO buffer layer on AZO film properties by radio frequency magnetron sputtering / J. European Ceramic. Soc. 28 : 3065 ~

H. Ko / 2005 / Growth of Al-doped ZnO thin films by pulsed DC magnetron sputtering / J. Crys. Growth 277 : 352 ~

H. Ko / 2005 / Pulsed laser deposition of epitaxial Al- doped ZnO film on sapphire with GaN buffer layer / Thin Solid Films 484 : 174 ~

M. E. Fragala / 2005 / Structural, optical, and electrical characterization of ZnO and Al-doped ZnO thin films deposited by MOCVD / J. Crys. Growth 277 : 327 ~

S. H. Jeong / 2003 / Deposition of aluminum-doped zinc oxide films by RF magnetron sputtering and study of their structural, electrical and optical properties / Thin Solid Fi

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