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자료유형
학술저널
저자정보
Whenelt mask (Finesolution) Yunsung Huh (Finesolution) Yunseok Hwang (Finesolution) Jeha Kim (Cheongju University)
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology Applied Science and Convergence Technology Vol.27 No.4
발행연도
2018.7
수록면
66 - 70 (5page)

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We fabricated an anode-type ion source driven by a charge repulsion mechanism and investigated its beam shape controlled by a Whenelt mask integrated at the front face of the source. The ion beam shape was observed to vary by changing the geometry of the Whenelt mask. As the angle of inclination of the Whenelt mask was varied from 40° to 60°, the etched area at a thin film was reduced from 20 mm to 7.5 mm at the working distance of 286 mm, and the light transmittance through the etched surface was increased from 78% to 80%, respectively. In addition, for the step height difference, Δ between the inner mask and the outer mask of Δ = 0, −1 mm, and +1 mm, we observed the ion beam shape was formed to be collimated, diverged, and focused, respectively. The focal length of the focused beam was 269 mm. We approved experimentally a simple way of controlling the electric field of the ion beam by changing the geometry of the Whenelt mask such that the initial direction of the ion beam in the plasma region was manipulated effectively.
#anode type ion beam source #Whenelt mask #ion beam shape #charge repulsion mechanism #focused ion beam

목차

Abstract
Ⅰ. Introduction
Ⅱ. Experiments
Ⅲ. Results and Discussion
Ⅳ. Summary
References

참고문헌 (15)

참고문헌 신청
D.S. Choi, T.J. Je, Y.E. Yoo, and E.S. Lee, Mon. Mecha. Eng., 34, 24 (2007). D.S. Choi, Y.E. Yoo, T.J. Je, J.S. Yun, and J. KSME, 48, 52 (2008). J.-W. Heo, Y.-C. Jeon, C.-M. Jeong, and C.-S. Lim, J. Korean Acad. Prosthodont., 38, 178 (2000). M. Grunze et al., J. Vac. Sci. Technol. A6, 222, 1266 (1988). W.J. Park, “A Study on customized plasma dry etching suited to various application processes”, Ph.D. Theses, SNU (2012).

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