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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
류경희 (경상대학교) Chan Ren-Jie (University of Oxford)
저널정보
한국현미경학회 한국현미경학회지 한국현미경학회지 제50권 제4호
발행연도
2020.1
수록면
1 - 6 (6page)

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Transition metal dichalcogenides (TMD), which is composed of a transition metal atom and chalcogen ion atoms, usually form vacancies based on the knock-on threshold of each atom. In particular, when electron beam is irradiated on a monolayer TMD such as MoS2 and WS2, S vacancies are formed preferentially, and they are aligned linearly to constitute line defects. And then, a hole is formed at the point where the successively formed line defects collide, and metal clusters are also formed at the edge of the hole. This study reports a process in which the line defects formed in a monolayer WS2 sheet expends into holes. Here, the process in which the W cluster, which always occurs at the edge of the formed hole, goes through a uniform intermediate phase is explained based on the line defects and the formation behavior of the hole. Further investigation confirms the atomic structure of the intermediate phase using annular dark field scanning transition electron microscopy (ADF-STEM) and image simulation.

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