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초록·키워드
Since Ag does not form silicides, the morphology variation of Ag film deposited on Si surfaces at 40K could be studied. The formed ultrathin films were in-situ analyzed by LEED, UPS and PAX under UHV in order to check their crystallinity, direction and work-function. Then, the film topography was checked by ex-situ AFM. Initially, the Ag film was thermally deposited onto the clean Si(100)-2x1 held at 40⁰K. The amorphous Ag film about 60Å fully covered the surface, and its work-function was 0.35eV lower than that of the crystalline Ag(111). Slow annealing it up to room temperature converts the amorphous Ag to crystalline Ag(111) film. The hexagonal LEED patterns of two 90⁰-off Ag(111) domains overlapped, and the Ag 4d bands started to show the dramatic angular dispersion. When Xe was exposed on this surface, the Xe preferentially adsorbed on Ag in the fashion of layer-by-layer. The first layer of Xe lowered the work-function of the adsorbed area ... 전체 초록 보기
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