Ta2O5 Capacitor전극으로의 PECVD-WNx박막 적용 연구 ( Application of PECVD-WNX Electrode for Ta2O5 Capacitor )

박병률 ,  이명범 ,  이현덕 외 2명

대한전자공학회 워크샵

1997 .01

ULSI DRAM을 이용한 새로운 구조의 캐패시터 ( The Noble Capacitor Structure for ULSI DRAM )

유상기 ,  전국진

대한전자공학회 학술대회

1992 .11

Cell-Plate Sense Amplifier for Sub-3V ULSI DRAMs

Dae Soon Kim ,  Hwan Yong Kim

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1993 .01

Si3N4 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 ( Characteristic of PECVD-WNx Thin Films Deposited on Si3N4 Substrate )

배성찬 ,  박병남 ,  손승현 외 2명

전자공학회논문지-D

1999 .07

Electrical Characterization of Very Thin SrTiO3 Films for ULSI DRAM Application

Cheol Seong Hwang ,  Soon Oh Pa ,  k 외 4명

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

반응성 스퍼터링 법으로 제조된 WNx 막의 결정 구조

이종하 ,  최병호

한국재료학회 학술발표대회

1998 .01

A Design of BIST Circuit for Testing ULSI DRAM

Dae Ik Kim ,  Sung Hwan Bae ,  Nam Hee Kim 외 2명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

1995 .01

A Design of BIST Circuit for Testing ULSI DRAM

Dae-Ik Kim ,  Sung-Hwan Bae ,  Nam-Hee Kim 외 2명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

1995 .08

The Properties of PECVD-WNx Films as a Glue Layer of CVD Tungsten for Submicron Contact Technology

Hwan Seok Seo ,  이상협 ,  Moo Sung Chae 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

NEW BITLINE ARCHITECTURE FOR ULSI DRAM`S

D. S. Kim ,  T. H. Kim ,  D. S. Baek 외 1명

대한전자공학회 기타 간행물

1992 .01

ULSI Cell Technology

윤찬수 ,  황창규

전자공학회지

1992 .05

BiCMOS 회로를 이용한 ULSI DRAM의 저잡음 비트선 설계

박형근 ,  차효진 ,  김덕수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1993 .07

BiCMOS 회로를 이용한 ULSI DRAM의 저잡음 비트선 설계 ( Low-Noise Bitline Design for ULSI DRAM`s using BiCMOS Circuits )

박형근 ,  차효진 ,  백덕수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1993 .07

ULSI DRAM의 D1 failure ASER 예측 알고리즘 ( An algorithm for predicting the D1 failure ASER of ULSI DRAM )

김태한 ,  계훈우 ,  김철성

전자공학회논문지-A

1996 .09

ULSI DRAM의 Capacitor 절연막용 BST 박막의 제작과 특성에 관한 연구

류정선 ,  강성준 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

1995 .12

ULSI DRAM의 Capacitor 절연막용 BST 박막의 제작과 특성에 관한 연구 ( Preparation and Properties of BST Thin Films for the Capacitor Dielectrics of ULSI DRAM's )

류정선 ,  강성준 ,  윤영섭

대한전자공학회 학술대회

1995 .11

DRAM 특집을 내면서

진대제

전기의세계

1989 .04

Thermal Nitride for Future ULSI Applications

신형철 ,  최석진 ,  이귀로

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Advanced Sputtering Target for V & ULSI Application

Osamu Kanou ,  Susumu Sawada

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1991 .01