Acid Diffusion Control in Chemically Amplified Positive Resists

김진백 ,  권영길 ,  최재학

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Novel Chemically Amplified Resists for Electron Beam Lithography

이해원 ,  이석규

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1992 .10

Novel Single-Layer Chemically Amplified Resist for 193 nm Lithography

최상준 ,  강율 ,  정동원 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

A PED-stabilized Chemically Amplified Resist

김진백 ,  최재학 ,  정민호 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .10

Application of New Empirical Model to the Electron Beam Lithography Process with Chemically Amplified Resists

Young Mog Ham ,  Cheol Hu ,  Chang Nam Ahn 외 4명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Dissolution Characteristics and Surface Morphology of Chemically Amplified Positive Resists in X-Ray Lithography

Ji ,  o Nakamu ,  a 외 3명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

New chemically Amplified Deep-UV Resist Based on Difunctional Protecting Group

이대엽 ,  이시형 ,  정시영 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

PED-Stabilized Chemically Amplified Resists Containing Basic Units in the Matrix Polymer

김진백 ,  최재학 ,  권영길

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1998 .04

Chemically amplified resists based on the norbornene copolymers with steroid derivatives

김진백 ,  이범욱

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1999 .04

T-top Free Chemically Amplified Resists Containing Vinyllactam Derivatives

김진백 ,  정민호

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

강영종 ,  이해원 ,  김웅렬 외 2명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Chemically Amplified Positive Resists for ArF Excimer Laser Lithography

안성남 ,  강영종 ,  이해원 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1996 .10

Chemically amplified resists based on the methacrylate polymers with cholic acid derivatives

김진백 ,  이범욱 ,  윤효진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Chemically Amplified p-Hydroxystyrene Copolymers as KrF Resists

김범석 ,  김영대 ,  이해원

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1997 .04

Inhibition of Surface Insolubilization in Chemically Amplified Positive Type Deep - UV Resists

양승관 ,  박찬언 ,  강종희 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

1994 .10

Computational and Experimental Approaches for Understanding Solubility and Ion Exchange of Organic Ionic Compounds in Chemically Amplified Resist (CAR) System

Eui-Hyun Ryu ,  Myung-Yeol Kim ,  Yoo Jung Yoon 외 3명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2016 .10

A chemically amplified molecular resist containing tertiary caprolactone for EUV lithography

정선화 ,  조경천 ,  김진백

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2012 .10

Hindered amine additives for post-exposure delay stability in ArF chemically amplified resists

김진백 ,  권영길 ,  윤효진 외 1명

한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집

2000 .04

Simulation and Edge Profiles of Chemically Amplified Resists with Highly Contrast in the Deep Submicron Range by using the Electron Beam lithography

Young Mog Ham ,  Chang Buhm Lee ,  Soo Hwan Kim 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

극자외선 리소그래피용 화학증폭형 레지스트

최재학 ,  노영창 ,  홍성권

공업화학

2006 .01