지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (2)
- 이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
- 연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
- 이 논문의 연구 히스토리 확인하기
초록· 키워드
오류제보하기
등록된 정보가 없습니다.
목차
등록된 정보가 없습니다.
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
상온 플라즈마 질화막을 이용한 새로운 LOCOS공정에 관한 연구 ( Study of a New LOCOS Process using Room Temperature Plasma Nitridation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .05
-
EVALUATION OF STRESS INDUCED DEFECTS DUE TO RECESSED LOCOS PROCESS
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
-
ECR 플라즈마 질화에 의해 형성된 실리콘 질화막의 전기적 특성 ( Electrical Properties of Silicon Nitride Formed by ECR Plasma Nitridation )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
-
LPCVD 질화막 만을 이용한 새로운 LOCOS 공정에 관한 연구 ( Study of a New LOCOS Process Using Only Thin LPCVD Nitride )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
-
LPCVD 질화막 만을 이용한 새로운 LOCOS 공정에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1987 .07
-
Locos구조에 대한 2차원 모델링 ( Two-Dimensional Modeling of Locos Structure )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
-
LOCOS구조에 대한 2차원 모델링
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
-
해석모델을 이용한 3차원 산화 시뮬레이션 ( Three-Dimensional Analytic Model of LOCOS )
대한전자공학회 학술대회
1993 .01
-
급속열질화에 의한 고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 특성개선 ( Improvement of Thin Oxide Grown by High Pressure Oxidation using Rapid Thermal Nitridation )
전자공학회논문지-D
1997 .08
-
MOCVD법에 의한 GaN에 미치는 사파이어($Al_{2}$$O_{3}$) 질화 처리 효과
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
-
LOCOS 공정에서 새부리 크기 감소를 위한 연구 ( A Study on the Reduction of Bird`s Beak in the LOCOS Process )
전자공학회논문지
1990 .01
-
고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 열질화 효과 ( Thermal Nitridation Effects of Ultrathin Oxides Grown By High Pressure Oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
-
고압산화법으로 성장된 얇은 산화막의 열질화 효과
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
-
LOCOS 공정에서 새부리 감소를 위한 최적화에 대한 연구 ( A Study on the Optimum for Bird's Beak Reduction in the LOCOS Process )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
-
SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )
전자공학회논문지
1988 .11
-
Oxidation Model에 따른 Advanced LOCOS 구현에 관한 연구 ( A Study for Advanced LOCOS Implement Depend On Oxidation Models )
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
-
플라즈마 실리콘 질화막의 전기적 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1989 .12
-
Electrical Characteristics of Thin Oxide Grown by High-Pressure Oxidation with Rapid Thermal Nitridation
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
-
실리콘 산화막의 열적질화와 그 MOS특성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1983 .01
-
공정 조건이 N2O 산화막의 전기적 특성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-569-013261702