Power Dissipation in a RF Capacitively Coupled Plasma

T. H. T ,  an ,  S. J. You 외 3명

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2013 .02

2D GPU-PIC을 이용한 Capacitively Coupled Plasma 장비 내에서 발생하는 Micro-arc 현상 연구

김창호 ,  허민영 ,  김진석 외 1명

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2018 .02

Initial Study of Electron Temperature and Density Simulation on Capacitively Coupled RF He Plasma

Deokho Hwang ,  Sanghyeok Pa ,  k 외 7명

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2019 .08

Control of spatial distribution of plasma density by the variable capacitor in a capacitively coupled plasma

Ho-Jun Moon ,  Chin-Wook Chung

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2018 .08

대면적 Capacitively Coupled Plasma에서 Multi power feeding에 따른 Plasma uniformity 변화

유광호 ,  나병근 ,  유대호 외 2명

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2010 .02

Highly selective etching of silicon nitride to CVD a-C in dual-frequency capacitively coupled CH₂F₂/H₂plasmas

김진성 ,  권봉수 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

Plasma Diagnostics using Optical Emission Spectroscopy on Argon Capacitively Coupled Plasma with Various Line-of-Sight

Jaemin Song ,  Jongsik Kim ,  Dae Chul Kim 외 6명

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2019 .08

Microtrenching of SiO₂ contact hole etching in C₄F₈/Ar capacitively coupled plasma

S. J. Kim ,  J. J. Lee ,  H. J. Yeom 외 2명

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2017 .08

Frequency dependence of electron energy distribution function and plasma parameters in capacitively coupled argon discharge

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2005 .08

Effects of CH₂F₂ and H₂ flow rates on process window for infinite etch selectivity of silicon nitride to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled plasmas

김진성 ,  권봉수 ,  안정호 외 2명

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2009 .02

상압에서 capacitively couple plasma type의 capillary electrode discharge를 이용한 glow discharge plasma의 특성연구

이창헌 ,  이용혁 ,  김동우 외 1명

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2001 .07

Selective etching of SiO₂ using embedded RF pulsing in a dual-frequency capacitively coupled plasma system

염원균 ,  전민환 ,  김경남 외 1명

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2015 .08

Process window for infinitely high etch selectivity of TEOS oxide to PVD a-C in dual-frequency capacitively coupled C₄F₈/CH₂F₂/O₂/Ar plasmas

권봉수 ,  김진성 ,  안정호 외 6명

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2009 .08

EEDF measurement in SF6+O2 & CF4+O2 mixture gas capacitively coupled plasma

안승규 ,  유신재 ,  장홍영

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2006 .02

Development of an Improved Numerical Methodology for Design and Modification of Large Area Plasma Processing Chamber

김호준 ,  이승무 ,  원제형

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2014 .02

Mechanism of infinite Si₃N₄/ArF PR etch selectivity during CH₂F₂/H₂/Ar dual frequency capacitively coupled plasma etching of Si3N4 layers

박창기 ,  김희대 ,  이춘희 외 1명

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2006 .08

Role of N₂ flow rate on etch characteristics and variation of line edge roughness during etching of silicon nitride with extreme ultra-violet resist pattern in dual-frequency CH₂F₂/N₂/Ar capacitively coupled plasmas

권봉수 ,  정창룡 ,  이내응 외 1명

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2010 .02

Effect of RF Bias on Plasma Parameters and Electron Energy Distribution in RF Biased Inductively Coupled Plasma

Hyo-Chang Lee ,  Chin-Wook Chung

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2012 .02

On the role of the singlet metastables in capacitively coupled oxygen discharges

Jon Tomas GUDMUNDSSON

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2016 .08

Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F₈/ O₂ 가스의 특성 해석

김환호 ,  이정열 ,  박희성 외 2명

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2019 .08