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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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한국자기학회 한국자기학회지 한국자기학회지 제11권 제2호
발행연도
2001.4
수록면
78 - 83 (6page)

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선형가열법을 이용하여 4“ 기판에 제조된 TMR 소자를 대량으로 열처리하는 경우를 상정하여 기판의 열특성을 전산모사를 이용하여 예측하여 보았다. 1개의 할로겐 램프 열원을 집속하여 기판의 한쪽 끝에서 다른 한쪽 끝으로 특정 속도로 주사하여 열처리하는 상황을 FDM(finite differential method)으로 예측하였다. 자성박막의 열처리에 흔히 채용되는 최고 표면온도 350℃를 고려한 경우를 상정한 결과 열원의 주사속도는 0.05 ㎜/sec에서 1 ㎜/sec으로 20배가 빨라져도 기판의 온도분포에는 40℃ 정도의 미미한 영향을 미쳤다. 따라서 선형가열법을 이용하여 TMR 소자를 열처리 하여도 주사속도를 빨리하여 기판 1장당 1분 40초의 단시간내에 목적하는 급속가열 열처리의 수행이 가능함을 예측할 수 있었다.

목차

국문초록

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 실험방법

Ⅲ. 결과 및 토의

Ⅳ. 결론

참고문헌

Abstract

참고문헌 (0)

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