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저널정보
Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 Vol.23 No.11
발행연도
2006.11
수록면
34 - 41 (8page)

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Nanoimprint lithography is an emerging technology which has an ability to make patterns under 100㎚ width. Recently many researches have been focused to develop multilayer patterning function in nanoimprint lithography and aligning method is attracting attention as a key technology. Moire has been used widely to measure dislocation or deformation of objects and considered one of the best solutions to detect aligning error in nanoimprint lithography. Concentric circular patterns are used to generate a moire fringe in this paper and aligning offset and direction are extracted from it. Especially this paper shows the difference of fringe equation of moire which can be obtained in nanoimprint process atmosphere from normal one.
#Nanoimprint(나노임프린트) #Moiré(모아레) #Aligning Method(정렬법) #Lithography(라소그라피)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 정렬용 모아레 패턴의 해석
3. 모아레를 이용한 나노임프린트 정렬
4. 결론
후기
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이진영 ,  박영걸 ,  박인수 외 6명 한국생산제조학회 학술발표대회 논문집 2007 .05
나노 임프린팅 공정에서의 모아레 정렬 기술
김기홍 ,  이재종 ,  최기봉 외 1명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2009 .06

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