펄스 플라즈마에 의한 나노입자 제조 시 하전이 입자의 포집에 미치는 영향

김광수; 김태성

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자료유형: 학술대회자료

저자정보: 김광수 김태성

저널정보: 대한기계학회 대한기계학회 춘추학술대회 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회 강연 및 논문 초록집

발행연도: 2007.5

수록면: 628 - 632 (5page)

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Silicon nanoparticles are widely studied as a material with great potential for wide applications. For application to present industry, it should be easy to control the characteristics of nanoparticle including the size and structure. In this paper, we investigated the formation of Si nanoparticle using pulse plasma technology. Plasma technology is already quite common in device industry and the size of nanoparticle can be easily controlled according to plasma pulse duration. An inductively-coupled plasma chamber with RF power (13.56 ㎒) was used with DC-biased grid (-200~+200 V) installed above the substrate. In order to measure the shape and size of nanoparticle, TEM was used. It was found that the size of nanoparticles can be controlled well with the plasma pulse duration and the collection efficiency is increased with the use of either negative or positive DC-bias.

#Pulse plasma(펄스 플라즈마) #Nanoparticle(나노입자) #Charging(하전)

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