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Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
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유도 결합형 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 탄소나노튜브의 성장
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
유도 결합 플라즈마 화학기상 증착법에 의한 TiN 증착
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2002 .05
RF-PECVD법에 의한 Ti-Si-N 박막의 증착거동
한국표면공학회지
2002 .08
광섬유 제조 Outside Vapor Deposition 공정에 관한 증착성능 연구 ( A Study of Particle Deposition During Outside Vapor Deposition Process )
대한전자공학회 학술대회
1993 .01
광섬유 제조 Outside Vapor Deposition 공정에 관한 증착성능 연구 ( A Study of Particle Deposition during Outside Vapor Deposition Process )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1993 .01
플라즈마 화학증착법의 발전과 응용 ( Application and Progress of Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition Process )
대한용접·접합학회지
1997 .10
Effect of Boron carbide thin films with RF power by plasma enhanced chemical vapor deposition
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
플라즈마 화학기상증착 법에 의해 중합한 아크릴산 필름의 구조적 특성
한국에너지학회 학술발표회
2014 .11
플라즈마 화학기상증착법으로 증착법으로 게이트 유전체용 하프늄 옥사이드의 특성평가
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
RF Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond-like and Graphitic Carbon
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1989 .11
수정된 화학증착방법의 모델링과 실헙적 연구 ( Experimental and Modelling Study of the Modified Chemical Vapor Deposition Process )
한국통신학회 광전자공학 학술회의
1996 .01
Thermal과 Plasma 화학기상증착법을 이용한 RuO$_2$박막형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
저압화학기상증착법에 의한 C/SiC 경사기능재료의 증착온도에 따른 특성
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
수정된 화학증착방법의 모델링과 실험적 연구 ( Experimental and Modelling Study of the Modified Chemical Vapor Deposition Process )
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
유도결합형 화학기상증착법을 이용한 탄소 나노튜브의 합성과 전계 방출 특성 연구
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
Remote PECVD 산화막의 증착특성 및 박막 특성 연구 ( A Study of Deposition Properties and Characteristics of SiO2 film Grown by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition )
전자공학회논문지-A
1992 .08
유도결합 플라즈마를 이용한 크름 증착에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2001 .06
CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF GaN USING a REMOTE PLASMA ENHANCEMENT
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
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