ICP를 이용한 $BCl_3/CH_4/H_2/Ar$, $Cl_2/CH_4/H_2/Ar$ chemistries의 AZO와 ZnO 식각특성비교

이학주 ,  권봉수 ,  김현우 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

2007 .01

SF_6/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구

강성칠 ,  권광호 ,  이윤찬 외 1명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

ZnO와 Al-doped ZnO 박막의 표면 형상과 전기․광학적 특성에 미치는 Wet Etching 시간의 영향

김민성

전기전자재료학회논문지

2013 .01

The Dry Etching Properties of ZnO Thin Film in Cl2/BCl3/Ar Plasma

우종창 ,  김창일

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2010 .01

Dry Etching Characteristics of ZnO Thin Films for the Optoelectronic Device by Using Inductively Coupled Plasma

Young-Hee Joo ,  김창일 ,  우종창

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성

禹鍾昌 ,  金瓘河 ,  金徑兌 외 3명

전기학회논문지

2007 .03

FTS법으로 제작한 ZnO/AZO 박막의 결정학적 특성

금민종 ,  최형욱 ,  김경환 외 2명

전기전자재료학회논문지

2004 .01

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향

金文永 ,  太興植 ,  李昈駿 외 3명

전기학회논문지 C

2000 .08

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask

D. Y. Kim ,  J. H. Ko ,  M. S. Pa 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

HBr/Ar/CHF3 혼합가스를 이용한 ZnO 박막의 유도결합 플라즈마 식각

김문근 ,  함용현 ,  권광호 외 1명

전기전자재료학회논문지

2010 .01

DRY ETCHING CHARACTERISTICS OF INGAN USING INDUCTIVELY COUPLED CI₂/CHF₃,CI2/CH4 CI₂/Ar PLASMAS

D.H. Lee ,  H.S. Kim ,  G.Y. Yeom 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

유체 시뮬레이션을 이용한 유도결합 Ar/CH₄ 플라즈마의 특성 분석

차주홍 ,  이호준

전기학회논문지

2016 .08

Etch Properties of HfO2 Thin Films using CH4/Ar Inductively Coupled Plasma

우종창 ,  Gwan-Ha Kim ,  Dong-Pyo Kim 외 1명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2007 .01

Cl2/BCl3/Ar 플라즈마에서 반응성 이온들에 의해 식각된 ZnO 박막 표면 연구

우종창 ,  김창일

전기전자재료학회논문지

2010 .01

Damage on the Surface of Zinc Oxide Thin Films Etched in Cl-based Gas Chemistry

우종창 ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

CH₄/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구

엄두승 ,  허경무 ,  박정수 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2009 .05

Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas

이건교 ,  이병택

한국재료학회 학술발표대회

2005 .01

유도결합 플라즈마 스퍼터링을 이용한 플라스틱 기판 상의 Al이 도핑된 ZnO 박막 증착

정승재 ,  한영훈 ,  이정중

한국표면공학회지

2006 .06

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

金文永 ,  白榮植 ,  太興植 외 3명

전기학회논문지 C

1999 .09