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Improvement of Nanosphere Lithography Using Nano Template 나노 템플릿을 이용한 나노구체 리소그라피 개선
논문 기본 정보
- 저자정보
- 발행연도
- 2008.5
- 수록면
- 214 - 215 (2page)
Improvement of Nanosphere Lithography Using Nano Template
초록·키워드
Nanosphere lithography has been studied as a general fabrication method to produce periodic particle array with nanometer scale features. This paper presents the first sub-100 ㎚ nanosphere lithography (NSL) with an optimized spin coating condition and a nano template structure. The spin coating c ... 전체 초록 보기
본문·목차
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