전자빔 리소그래피를 이용한 주사기법에 따른 패턴형상 조정

오세규; 김승재; 김동환; 박근; 장동영

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자료유형: 학술저널

저자정보: 오세규 (서울산업대학교) 김승재 김동환 (서울산업대학교) 박근 장동영

저널정보: 한국생산제조학회 한국생산제조학회지 한국공작기계학회지 Vol.18 No.6

발행연도: 2009.12

수록면: 558 - 564 (7page)

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To aim at obtaining a correct and fine small pattern by an electron beam lithography several conditions and methods affecting a real pattern shape needs to be investigated. A micro/nano sized pattern shape is sometimes dependent on the scanning method. In this work, four types of scanning methods are implemented and their characteristics are investigated. For a 11x11um pattern, a Zigzag scanning method proves a precise pattern generation. The other ways such as SEM scanning and swirl in-out scanning method result in some distorted pattern shape. It is proved that abrupt change in the pattern generation limits to obtaining a fine and small pattern.

#Electron beam lithography(EBL)(전자빔 리소그래피) #Pattern shape(패턴 형상) #Scanning method(주사 방식) #Polymethylmethacrylate(PMMA)(레지스트)

참고문헌 (13)

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1. [단행본] - Marcel Dekker Inc / 1998 / Technology roadmap for nanoelectronics

2. [단행본] - Madou, M. j / 2001 / Fundamentals of microfabrication / CRC press : 53 ~ 57

3. [학술지(정기간행물)] - Kim, S. T / 2005 / Technology of Semiconductor Industry and Development of Photoresist / Polymer Science and Technology 16 (1) : 10 ~ 16

4. [학술지(정기간행물)] - Nastaushev, Y. V / 2002 / 20-nm Resolution of electron lithography for the nano devices on ultrathin SOI film / Matrials Science and Engineering 19 : 189 ~ 192

5. [학술지(정기간행물)] - Kim, J. G / 2008 / Nano-machining Technology Using Electron Beam / Journal of the Korea Society for Precision Engineering 25 (3) : 7 ~ 14

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