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이용수
Abstract
1. 서론
2. 측정결과 및 고찰
3. 결론
[참고문헌]
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Si 이온주입결함이 B의 channeling 및 확산에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
Si 이온주입결함이 B 의 channeling 및 확산에 미치는 영향 ( Effects of Si Ion Induced Defects on Channeling and Diffusion on B )
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
Si+ 이온주입된 Si 기판의 결함형성 및 회복에 관한 연구 ( Characteristics of Si + - self implant Damage and Its Annealing Behavior )
전자공학회논문지-A
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공기오염과 음(-)이온
조명·전기설비
2005 .06
“음(-)이온” 특집에 즈음하여
조명·전기설비
2005 .06
Deposition of polycrystalline Si thin film on glass substrates by using a direct negative Si ion beam source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
ISFET 이온감지기구의 Site Binding 모형 확장과 그 Si3N4 수소이온 감지막에의 적용 ( Extension of the Site Binding Model for Ion Sensing Mechanism of ISFET and Its Application to the Hydrogen Ion Sensing Si3N4 Membrane )
전자공학회논문지
1988 .11
BF2 이온 주입으로 형성된 a-Si 및 poly-Si 층을 혼합한 새로운 P+ 게이트 전극 구조 특성 연구
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
이온 주입 기술 현황
기계와 재료
2001 .01
실리콘 이온 주입후 고상 결정화된 Poly-Si TFT의 전기적 특성 ( The Electrical Characteristics of Poly-Si TFT Using SPC Films After Si ion Implantation )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
선택적인 Si 이온 주입이 비정질 실리콘의 레이저 결정화에 미치는 영향
대한전기학회 학술대회 논문집
2001 .11
전해질로의 이온성 액체 응용
고분자 과학과 기술
2004 .08
이온주입시킨 Si-SiO2 계면에서의 전자상태 계산 ( Self-consistent Calculation of Electronic States at ion-implanted Si-SiO2 interface )
대한전자공학회 학술대회
1987 .11
고분자 전해질내 이온거동의 해석
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
1999 .04
전해질 용액의 농도가 단결정 Si의 마찰거동에 미치는 영향
한국트라이볼로지학회 학술대회
1991 .06
고에너지 이온빔이 주입된 고분자의 물성연구
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .04
TOP ELECTRODE ANNEALING EFFECTS IN SrBi$_2$Ta$_2$O$_9$/CeO$_2$/Si STRUCTURE
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
음이온과 생활2
한국원적외선협회보
2002 .01
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