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이용수
Abstract
1. 서론
2. 분광해석방정식
3. 실험방법
4. 실험결과
5. 결론
참고문헌
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Thickness Measurement of Sputtered BST Film using Spectroscopic Ellipsometer
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
Rotating Compensator Spectroscopic Ellipsometer의 개발 및 응용
한국반도체장비학회지
2003 .01
MURA Detection Method using a Slit-Beam-Profile Ellipsometer
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
Si$O_{2}/{Si}_{0.7}{Ge}_{0.3}/SiO_{2}$계에서의 계면응집현상에 의한 양자점 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
슬젤법에 의해 제작된 SiO₂ 박막 특성 분석
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .11
Ellipsometry 에서의 calibration 및 입사면 고정형 ellipsometer
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2003 .01
SiO₂/Si₃N₄ 2중층 박막의 유전특성
대한전기학회 학술대회 논문집
2003 .07
솔젤법에 의해 제작된 SiO₂ 박막의 물성에 관한 연구
전기학회논문지 C
2004 .11
N₂O 가스에서 열산화한 SiO₂막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1992 .07
분광 타원계측기를 이용한 고굴절률 게이트 산화막의 광물성 분석
대한기계학회 춘추학술대회
2003 .11
다결정 Si/SiO₂ ∥ Si 적층구조에서 SiO₂층의 두께에 따른 유전특성의 변화
한국표면공학회지
2000 .08
SiO2박막의 열적 질화 ( Thermal Nitridation of Thin SiO2 Film )
전자공학회논문지
1988 .11
$SiO_2$ RF Power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 $TiO_2-SiO_2$ 절연막의 특성
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
산소 이온빔을 이용한 SiO₂ 박막 후처리 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .05
Growth and Analysis of Intermediate SiO2 for the CeO2 / SiO2 Structure
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
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