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대한전기학회 대한전기학회 학술대회 논문집 2008 대한전기학회 전기물성·응용부문회 Techno-Fair 및 추계학술대회 논문집
발행연도
2008.10
수록면
121 - 122 (2page)

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The films of the vanadium tungsten oxide, V<SUB>1.85</SUB>W<SUB>0.15</SUB>O? were grown on Pt/Ti/SiO₂/Si substrate by RF sputtering method. It was found that film crystallinity, dielectric properties, and TCR properties were strongly dependent upon the thin film thickness. As increasing of V<SUB>1.85</SUB>W<SUB>0.15< ... 전체 초록 보기

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