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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
3. 결론
[참고문헌]
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고에너지 이온빔이 주입된 고분자의 물성연구
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2002 .04
이온 주입한 MOSFET에 대한 Threshold 전압의 모델링 MOSFET의 제작 및 평가 ( Threshold Voltage Modeling of Ion-Implanted MOSFET`s )
대한전자공학회 학술대회
1984 .01
국부 셀 격자 결함 모델을 사용한 극 저 에너지 이온 주입에 관한 연구 ( A Study on the Ultra-Low Energy Ion Implantation using Local Cell Damage Accumulation Model )
전자공학회논문지-D
1999 .07
실리콘 식각 공정시 발생하는 격자결함 관찰 및 제거동향 연구
한국재료학회지
1996 .01
이온 주입된 MOSFET의 문턱 전압의 해석적 모델 ( Analytical Threshold Voltage Model of Ion-Implanted MOSFET )
전자공학회지
1985 .11
열처리에 따른 이온 주입시 발생하는 2차결함의 거동
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
이온 주입한 MOSFET에 대한 Threshold 전압의 모델링 ( Threshold Voltage Modeling of Ion-Implanted MOSFET`s )
전자공학회지
1985 .01
A$s^+$이온을 주입시킨 Si 표면부 미세구조와 특성
한국재료학회지
1992 .01
이온 주입 기술 현황
기계와 재료
2001 .01
결함 주입을 이용한 소프트웨어 보안 테스팅
정보보호학회지
2006 .10
JFET 영역의 이중이온 주입법을 이용한 Power MOSFET의 온저항특성에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2015 .01
전력 MOSFET
전기의세계
1985 .05
중수소 이온 주입된 게이트 산화막을 갖는 MOSFET의 전기적 특성
전자공학회논문지-SD
2010 .04
소자 크기가 고정된 전력 MOSFET의 최적화
전기학회논문지
1997 .04
급속열처리에 따른 Si 이온주입 유기결함의 회복 거동 ( Annealing Behaviors of Various Defects in Si during Rapid Thermal Annealing )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
고에너지 이온주입 공정에 의한 유기 결함과 그 감소 대책
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
포켓 이온 주입된 MOSFET 소자의 l/f 잡음 특성
전자공학회논문지-SD
2004 .03
고정된 소자치수를 갖는 전력 MOSFET의 최적화
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .11
이중 확산 MOSFET의 C-V 특성
대한전자공학회 학술대회
1986 .12
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