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이용수
Abstract
1. 서론
2. Laser CVD 장치의 구성
3. 실험 방법
4. 결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌
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플라즈마 CVD 방법에 의한 oxynitride막의 특성에 관한 고찰
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
레이저 CVD법에 의해 퇴적된 OXYNITRIDE막의 기판세정법에 따른 특성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
Characterization of Silicon Oxynitride Film by Plasma CVD
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1992 .01
Oxynitride Films Deposition and Characteristics by Eximer Laser CVD
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
N₂O 가스에서 열산화에 의해 형성된 oxynitride막의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
플라즈마 실리콘 OXYNITRIDE막의 구조적 특성에 관한 고찰
전기학회논문지
1992 .05
Laser CVD SiO2 막의 제특성 ( Characteristics of Laser CVD SiO2 Films )
대한전자공학회 학술대회
1991 .07
Laser CVD SiO₂막의 제특성
대한전자공학회 학술대회
1991 .06
The Characteristics of Poly-Si Films Deposited by Laser CVD and Laser Etching
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
RTP로 $N_2$O 분위기에서 제조한 Oxynitride Gate 절연체의 물질적 전기적 특성
한국재료학회지
1992 .01
$N_{2}O$ 기체로 제조한 Oxynitride 절연체의 물질적 전기적 특성
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
Laser CVD에 의한 poly-Si 막의 퇴적 및 Laser etching 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1996 .07
PECVD 법으로 증착된 silicon oxynitride 의 물성 분석
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
EFFECTS OF $N_2O$ PRESSURE ON THE CHARACTERISTICS OF ULTRA-THIN GATE OXYNITRIDE
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
Laser CVD SiN막의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1990 .11
PLASMA SILICON OXYNITRIDE 막의 DEPOSITION 조건에 따른 막의 구조적 특성 고찰 ( A Study on the Structure Characteristics of Plasma Silicon Oxynitride Film According to Deposition Condition )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Laser CVD에 의해 국소선택적으로 형성한 절연막의 형성특성 ( Formation characteristics of selective area deposited insulating films by Laser CVD )
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Laser CVD에 의해 국소선택적으로 형성한 절연막의 형성특성
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
Laser CVD에 의한 Ta₂O₅ 형성과 그 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1994 .07
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