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논문 기본 정보
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- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.11
- 수록면
- 23 - 28 (6page)
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CVD diamond films was deposited on hard tool substrate by MPECVD (Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) System. CVD diamond thin films were deposited by normal and cyclic process, which can be carried out periodically on and off the methane and oxygen gas flow in the H₂-CH₄-O₂ system. The films were characterized by SEM, Raman spectroscopy and AFM.
The Raman spectra of the nano particle consist mainly of two clearly distinct peak near 1140 and 1332㎝-1. The Ra surface roughness of the films was observed at below approximately 200㎚. The best conditions of CVD coating for hard insert tool are microwave power 1000W, pressure 30torr, CH₄/H₂ rate 2% and deposition time 4hr.
The Raman spectra of the nano particle consist mainly of two clearly distinct peak near 1140 and 1332㎝-1. The Ra surface roughness of the films was observed at below approximately 200㎚. The best conditions of CVD coating for hard insert tool are microwave power 1000W, pressure 30torr, CH₄/H₂ rate 2% and deposition time 4hr.
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과 및 고찰
4. 결론
참고문헌
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