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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2010.10
- 수록면
- 297 - 302 (6page)
이용수
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2010
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This study is focused on the resin layer formation of UV imprinting process by changing imprinting pressure and period. The mold shape is made for the process of window open over the pattern transfer area and the imprinting period is assigned as the time just before the UV light curing. The residual layer is measured by changing the imprinting period and pressure magnitude, and the measured data of residual layer provides useful information for the design of the process conditions of imprinting processes.
목차
Abstract
1. 서론
2. Window Open을 위한 UV임프린트 공정 및 몰드 구조
3. 임프린팅 가압 조건에 따른 레진 잔막 측정
4. 결론
후기
참고문헌
참고문헌 (7)
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Hiroshima, Hiroshi / 2009 / Homogenity of Residual Layer Thickness in UV Nanoimprint Lithography / Japanese Journal of Applied Physics 48:06FH18-1~06FH18-4
Hiroshima, Hiroshi / 2009 / Nanoimprint with Thin and Uniform Residual Layer for Various Pattern Densities / Microelectronic Engineering 86:611~614
Hiroshima, Hiroshi / UVnanoimprint with the Assistance of Gas Condensation at Atmospheric Environmental Pressure / Journal of Vacuum Science Technology, B 25(6):2333~2336
Merino, S / 2008 / Stamp deformation and its Influence on Residual Layer Homogeneity in Thermal Nanoimprint Lithography / Microelectronic Engineering 85:877~880
Shao, J / 2008 / A Novel Overlay Process for Imprint Lithography Using Load Release and Alignment Error Pre- Compensation Method / Microelectronic Engineering 85:168~174
Hiroshima, Hiroshi / 2009 / Nanoimprint with Thin and Uniform Residual Layer for Various Pattern Densities / Microelectronic Engineering 86:611~614
Hiroshima, Hiroshi / UVnanoimprint with the Assistance of Gas Condensation at Atmospheric Environmental Pressure / Journal of Vacuum Science Technology, B 25(6):2333~2336
Merino, S / 2008 / Stamp deformation and its Influence on Residual Layer Homogeneity in Thermal Nanoimprint Lithography / Microelectronic Engineering 85:877~880
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