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논문 기본 정보

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(호서대학교) (호서대학교) (세왕씨이텍) (한국기계연구원)
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대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2003년 하계종합학술대회
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    초록·키워드

    This paper has been studied on wafer cleaning and photoresist striping in semiconductor fabrication processes using ozone solved deionized water. In this work, we have developed high concentration ozone generating system and high contact ratio ozone solving system to get high efficiency DIO₃. Through this study, we obtained 11% ozone gas concentration, 99.5% of ozone efficiency and 51% of solubility in deionized water.

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      UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2013-569-000894201