반도체 세정 공정에서의 청정 기술 동향

Q: 이 논문에서 정의한 청정 기술이란 무엇인가?

반도체 제조 공정에서 환경 오염 물질의 사용을 줄이거나 대체함으로써 환경에 미치는 영향을 최소화하는 기술을 의미한다. 이는 특히 기존 액상 세정 공정의 폐수 발생 문제를 해결하기 위한 기상, UV, 플라즈마 세정 등의 대체 방안을 포함한다.

Q: 수소 플라즈마 세정 공정이 반도체 오염 제거에 효과적인 이유는 무엇인가?

연구 결과, 수소 플라즈마는 반응성이 큰 수소 라디칼과 이온을 통해 탄소화합물을 포화탄소화합물로 전이시켜 쉽게 탈착시키며, 이온 도움 반응으로 자연 산화막을 제거한다. 또한 세정 후 수소 마감을 통해 표면 재오염을 억제하는 효과가 있다.

조영성; 이종협&nbsp;&nbsp;&nbsp;&nbsp;

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자료유형: 학술저널

저자정보: 조영성 이종협

저널정보: 한국청정기술학회 청정기술 청정기술 제5권 제1호

발행연도: 1999.6

수록면: 62 - 77 (16page)

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Semiconductor industry has rapidly grown because of the need from electronic and computer industries. However the global environmental regulations for various hazardous chemical compounds, which are indispensably used in semiconductor manufacturing process, are getting stronger. The semiconductor industries should develop the cleaner technologies in order to both lead the future world market and avoid the regulations form environmentally developed countries. In this paper, cleaner technologies for semiconductor cleaning processes are surveyed, such as gas phase process, UV process, and plasma process. Advantages and disadvantages of these processes are discussed.

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